[发明专利]蒸镀源及蒸镀装置、以及蒸镀膜制造方法

说明书

蒸镀源(1)具备：收容蒸镀粒子(11)的收容部(2)以及沿X轴方向排列为线状的多个喷嘴(3)，收容部的X轴方向端部的多个喷嘴朝着X轴方向端部向倾斜方向突出，收容部的X轴方向端部的喷嘴的配设密度比收容部的中央部的喷嘴的配设密度高，在收容部的X轴方向端部中，邻接的喷嘴的上端面(32)彼此连结的线(L2)为直线状。

技术领域

本发明涉及一种被称为线源或线性源的蒸镀源及具备该蒸镀源的蒸镀装置、以及使用所述蒸镀粒子射出装置的蒸镀膜制造方法。

背景技术

在具有发光元件的EL(Electro luminescence；电致发光)显示装置等平板显示器中，构成发光元件的设于一对电极间的发光层等功能层的形成通常使用真空蒸镀法。

在此种显示装置的制造中，自显示画面的大型化、抑制制造成本等观点考虑，在很多情况下使用大面积基板的大型母基板作为被成膜基板。在此种大型被成膜基板上进行蒸镀膜的成膜的情况下，进行扫描蒸镀，即，使用被称为线源或线性源的蒸镀源，使被成膜基板与蒸镀源的相对位置变化，由此一面扫描被成膜基板一面进行蒸镀。在此种蒸镀源中，射出蒸镀粒子的多个射出口沿着与扫描方向正交的方向，线状地排为一列而进行设置。

然而，为了制造进行彩色显示的显示装置，需要将发光颜色不同的发光层分别涂于每个像素。此时，为了实现高清晰化，使用设有高精度的掩模开口的FMM(Fine MetalMask；精细金属掩模)作为蒸镀掩模。自蒸镀源射出的蒸镀粒子经由蒸镀掩模的掩模开口而蒸镀于被成膜基板上。由此在被成膜基板上形成规定图案的蒸镀膜。

然而，从倾斜方向以较浅角度入射到掩模开口的蒸镀粒子无法穿过掩模开口而到达被成膜基板。因此，在延长蒸镀源的长边方向的长度的情况下，在蒸镀源的长边方向的蒸镀粒子分布中产生偏差，成为蒸镀掩模的阴影的部分的膜厚变薄，发生很多被称为阴影的现象，比如产生图案模糊，或像素的一部分缺损。

作为使增大射向被成膜基板的入射角的技术，已知有在蒸镀源的一个表面，将突出到外部的多个喷嘴排列为线状，并使该喷嘴的开口端面朝向该蒸镀源的外侧方向，由此缩小喷嘴的排列范围而增大射向被成膜基板的入射角的技术(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本公开专利公报“日本专利特开2014-77193号(2014年5月10日公开)”

专利文献2：日本公开专利公报“日本专利特开2004-95275号(2004年3月25日公开)”

发明内容

本发明所要解决的技术问题

然而，如果为了如上所述地增大射向被成膜基板的入射角而缩小喷嘴的排列范围，则在被成膜基板中的与所述蒸镀源的中央部对置的部分中，由于自多个方向飞来的蒸镀粒子而造成所形成的蒸镀膜的膜厚变厚，另一方面，在与所述蒸镀源的两端部对置的部分所形成的蒸镀膜的膜厚变薄。

另一方面，例如专利文献2涉及一种呈线状地设有多个开口的蒸镀源，作为在并不延长该蒸镀源的长边方向的长度的情况下，避免该长边方向的蒸镀膜的分布偏差，形成均匀的蒸镀膜的技术，揭示了使所述开口的间距在蒸镀源的中央附近较宽、且在端部侧较窄的技术。

然而，在如专利文献1设置突出到外部的喷嘴的情况下，当如专利文献2所示使蒸镀源的端部侧的喷嘴间距变窄时，自所述端部侧的喷嘴射出的蒸镀粒子与该喷嘴所邻接的喷嘴碰撞，从而在所形成的蒸镀膜的分布中产生混乱。其结果，所形成的蒸镀膜的膜厚分布的均匀性降低，且量产的产率变差。

本发明是鉴于所述问题点而成者，其目的在于提供可抑制阴影的产生、且改善膜厚分布的均匀性的蒸镀源、及蒸镀装置以及蒸镀膜制造方法。

解决问题的方案