[发明专利]真空蒸发源

说明书

本发明的目的是提供能够改善加热线的平直度的真空蒸发源。为此，本发明的方面提供了包括坩埚的真空蒸发源，所述真空蒸发源包括用于加热所述坩埚的第一加热线和用于固定所述第一加热线的上部部分的第一上部固定部分。

技术领域

本发明涉及用于在晶片或衬底上形成薄膜的真空蒸发源。

背景技术

通常，真空蒸发源加热并且蒸发用于形成薄膜的材料，以在设置在高真空室中的衬底上形成预定的薄膜。它用于在半导体制造工艺中在晶片表面上形成由特定材料制成的薄膜，或者在大型平板显示装置的制造工艺中在玻璃衬底等的表面上形成期望材料的薄膜。

图1是示意性地示出常规真空蒸发源的视图。

如图1所示，常规真空蒸发源包括具有内部空间11的壳体10、设置在内部空间11中并且容纳用于形成薄膜的材料的坩埚20、定位于内部空间11的侧面与坩埚20的外侧之间以加热坩埚20的加热线30、以及支撑加热线30的底部的支撑件40。

然而，常规真空蒸发源的问题在于，由于支撑件40支撑加热线30的底部，加热线30由于重力而弯曲。特别地，当加热线30的热膨胀和热收缩进行很多次时，加热线30的热膨胀在向上的方向上重复，并且加热线30在重力的影响下连续弯曲，从而最终降低加热线30的平直度。

发明内容

技术问题

本发明的目的是提供能够改善加热线的平直度的真空蒸发源。

问题的解决方案

本发明的方面提供了包括坩埚的真空蒸发源，所述真空蒸发源包括用于加热所述坩埚的第一加热线和用于固定所述第一加热线的上部部分的第一上部固定部分。

第一加热线可以包括以向上凸的形状弯曲的第一向上弯曲部分。第一向上固定部分可以包括用于支撑第一向上弯曲部分的下部部分的弯曲的下部固定构件，以及用于支撑第一向上弯曲部分的上部部分的弯曲的上部固定构件。

第一加热线还可以包括与第一向上弯曲部分间隔的以向上凸的形状弯曲的第二向上弯曲部分，弯曲的下部固定构件可以具有围绕坩埚的环形，以将第一向上弯曲部分和第二向上弯曲部分的每一个下部部分支撑在一起。弯曲的上部固定构件可以具有围绕坩埚的环形，以将第一向上弯曲部分和第二向上弯曲部分的每一个上部部分支撑在一起。

根据以上描述的本发明的实施方案的真空蒸发源还可以包括具有容纳坩埚的内部空间的壳体，以及设置在内部空间的侧面与第一加热线之间的反射板，其中弯曲的下部固定构件和弯曲的上部固定构件中的每一个均可以被反射板支撑。

第一加热线可以包括分别在第一向上弯曲部分的两个侧面上在向下方向上延伸的第一向下直的部分和第二向下直的部分，其中第一向下直的部分和第二向下直的部分可以穿透弯曲的下部固定构件。

弯曲的下部固定构件和弯曲的上部固定构件中的每一个均可以由绝缘材料制成。

根据以上描述的本发明的实施方案的真空蒸发源还可以包括用于加热坩埚的第二加热线，以及用于固定第二加热线的上部部分的第二上部固定部分，其中第一加热线可以定位成与坩埚的上半部分相对应，并且第二加热线可以定位成与坩埚的下半部分相对应。

有益效果

如以上描述，根据本发明的实施方案的真空蒸发源可以具有以下效果。

根据本发明的实施方案，其提供了包括第一加热线和第一上部固定部分的技术配置。因此，由于第一加热线通过第一上部固定部分悬挂在向下的方向上，因此可以通过重力的影响来改善第一加热线的平直度。特别地，第一加热线具有悬挂形状，同时被第一上部固定部分阻止向上热膨胀。因此，当第一加热线的热膨胀和热收缩进行很多次时，仅在向下的方向(其为重力的方向)上发生变形，使得可以通过重力的影响进一步改善第一加热线的平直度。