[发明专利]真空蒸发源在审
| 申请号： | 201780094759.2 | 申请日： | 2017-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN111051564A | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 黃道元 | 申请（专利权）人： | 艾尔法普拉斯株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 蒸发 | ||
1.包括坩埚的真空蒸发源，包括：
第一加热线，其用于加热所述坩埚；以及
第一上部固定部分，其用于固定所述第一加热线的上部部分。
2.如权利要求1所述的真空蒸发源，其中所述第一加热线包括以向上凸的形状弯曲的第一向上弯曲部分，以及
其中所述第一上部固定部分包括：
弯曲的下部固定构件，其用于支撑所述第一向上弯曲部分的下部部分；以及
弯曲的上部固定构件，其用于支撑所述第一向上弯曲部分的上部部分。
3.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述第一加热线还包括与所述第一向上弯曲部分间隔的以向上凸的形状弯曲的第二向上弯曲部分，
其中所述弯曲的下部固定构件具有围绕所述坩埚的环形，以将所述第一向上弯曲部分和所述第二向上弯曲部分的每一个下部部分支撑在一起，以及
其中所述弯曲的上部固定构件具有围绕所述坩埚的环形，以将所述第一向上弯曲部分和所述第二向上弯曲部分的每一个上部部分支撑在一起。
4.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述真空蒸发源还包括：
壳体，其具有容纳所述坩埚的内部空间，以及
反射板，其设置在所述内部空间的侧面与所述第一加热线之间，以及
其中所述弯曲的下部固定构件和所述弯曲的上部固定构件中的每一个被所述反射板支撑。
5.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述第一加热线包括分别在所述第一向上弯曲部分的两个侧面上在向下方向上延伸的第一向下直的部分和第二向下直的部分，以及
其中所述第一向下直的部分和所述第二向下直的部分穿透所述弯曲的下部固定构件。
6.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述弯曲的下部固定构件和所述弯曲的上部固定构件中的每一个均由绝缘材料制成。
7.如权利要求1所述的真空蒸发源，其中所述真空蒸发源还包括：
第二加热线，其用于加热所述坩埚，以及
第二上部固定部分，其用于固定所述第二加热线的上部部分，以及
其中所述第一加热线定位成与所述坩埚的上半部分相对应，以及
其中所述第二加热线定位成与所述坩埚的下半部分相对应。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾尔法普拉斯株式会社，未经艾尔法普拉斯株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780094759.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：射流单元
- 下一篇：移动网络交互代理的方法和设备
- 同类专利
- 专利分类
