[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法以及有机EL显示装置的制造方法

说明书

本发明提供一种在被蒸镀基板与蒸镀掩模的对位时不易受到磁场的影响，并且通过在蒸镀时使用强烈地吸引蒸镀掩模而使被蒸镀基板与蒸镀掩模接近的磁性卡盘，从而可防止磁性卡盘的发热的蒸镀装置、蒸镀方法以及有机EL显示装置的制造方法。在该蒸镀装置中，磁性卡盘(3)具备永久磁铁(3A)和电磁铁(3B)。

技术领域

本发明涉及一种例如蒸镀有机EL显示装置的有机层的蒸镀装置、蒸镀方法以及有机EL显示装置的制造方法。

背景技术

例如，在制造有机EL显示装置的情况下，在支承基板上形成TFT等驱动元件、平坦化膜以及电极，有机层按照每像素对应地层叠于该电极上。该有机层不耐水分而无法进行蚀刻。因此，有机层的层叠通过如下方式进行：将支承基板(被蒸镀基板)与蒸镀掩模重叠配置，穿过该蒸镀掩模的开口来进行有机材料的蒸镀。并且，在所需的像素的电极上仅层叠有所需的有机材料。该被蒸镀基板与蒸镀掩模在尽量不接近时不会仅在像素的准确区域形成有机层。当并未仅在准确的像素的区域沉积有机材料时，显示图像易于变得不清晰。因此，蒸镀掩模使用磁性体，并使用通过在永久磁铁或电磁铁与蒸镀掩模之间夹装被蒸镀基板，从而使被蒸镀基板与蒸镀掩模接近的磁性卡盘(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-024956号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

作为蒸镀掩模，以往使用金属掩模，但是近年来，存在为了形成更精细的开口而使用由树脂膜形成的，掩模的开口的周围被金属支承层支承的混合型的蒸镀掩模的倾向。像混合掩模那样，磁性体少的蒸镀掩模如果不是更强的磁场(magnetic field)则无法进行充分的吸附。

如上所述，作为磁性卡盘，使用永久磁铁或电磁铁。但是，由于永久磁铁会一直产生磁场，因此在蒸镀前将被蒸镀基板与蒸镀掩模对位时磁场也起作用。因此，当磁场较强时，在对位时蒸镀掩模被被蒸镀基板吸附，难以仅使被蒸镀基板与蒸镀掩模中的一方移动来进行对位。为了几乎不受到该磁场的影响地进行对位，需要远离永久磁铁地进行对位。但是，在远离永久磁铁地进行对位之后再次使永久磁铁靠近被蒸镀基板时，在其移动过程中存在有蒸镀掩模横向偏移地被吸附的可能性。如果在靠近永久磁铁时蒸镀掩模产生位置偏移，则无法进行精细的蒸镀。此外，当存在有永久磁铁的磁场时，还存在有在装配或拆卸蒸镀掩模等时难以进行操作的问题。

另一方面，当使用电磁铁时，通过断开对电磁铁的线圈施加的电流，从而将磁场设为几乎为0，通过施加电流，可产生磁场来进行吸附。因此，能够在对位时等不施加磁场，且在对位后施加磁场，因此被蒸镀基板与蒸镀掩模的对位、蒸镀掩模等的装配、拆卸等变得容易。并且，不用使电磁铁移动而仅通过施加电流来产生磁场。因此，即使在对位后产生磁场，蒸镀掩模或被蒸镀基板中的任一者均不产生移动，可以保持准确的位置。

然而，在使用电磁铁对蒸镀掩模进行吸引的情况下，为了产生较大的磁场，需要增大电流或增多线圈的匝数。其原因在于：电磁铁的磁场强度与电磁铁的线圈匝数和在该线圈中流通的电流之积成正比。因此，在为了增大磁场而增大电流或者增多线圈匝数的任意情况下，发热量都会变大。原本在电磁铁的线圈中流通有大电流，因此针对电磁铁的线圈使用电阻较小的电线，但从成本的关系考虑，与铜线相比而言更倾向于使用铝线，从而会因电线的电阻损耗的增加而造成电磁铁更大程度地发热。而且，能够增大当电磁铁使用芯体(铁芯)时所产生的磁场，但也会在芯体中产生涡电流而产生涡电流的发热。