[发明专利]衬底处理装置和方法

说明书

一种衬底处理装置，包括密封压力容器，诸如原子层沉积ALD装置；流体入口组件，被附接到密封压力容器的壁，该流体入口组件具有穿过壁的流体入口管；以及弹性元件，在流体入口组件中的流体入口管周围，从而将入口管耦合到壁，其中弹性元件的内部表面和外部表面中的一个表面受到在压力容器内主导的压力并且另一表面受到环境压力，以及其中流体入口管防止被携带到内部的流体与所述弹性元件接触；以及一种相关方法。

技术领域

本发明总体上涉及衬底处理反应器及其操作方法。更具体地但非排他地，本发明涉及原子层沉积(ALD)反应器。

背景技术

本部分说明有用的背景信息，而未认可本文中所描述的任何技术代表现有技术。

各种衬底处理装置(诸如沉积反应器)通常具有处于不同压力区域(从环境压力达到真空压力)的部件。真空部件通常适配于环境压力的大小，并且在温度和压力中的差异将会引起在非期望的位置中的变形。特别是到处于降低压力中的室(chamber)的化学物入口管通常从环境压力区域被引导或经由环境压力区域被引导，并且在多数情况下经由具有一组不同温度的区域被引导，这将会引起对化学物入口管的极大的应力，这可能是故障的关键位置。化学物入口到室中的示例在US 8,741,062 B1中被示出。

发明内容

本发明的某些实施例的目的是提供一种具有流体入口组件的改进的装置，或者至少提供一种对现有技术的备选方案。

根据本发明的第一示例方面，提供了一种衬底处理装置，包括：

密封压力容器；

流体入口组件，被附接到密封压力容器的壁，流体入口组件具有穿过壁的流体入口管，该装置还包括：

弹性元件，在流体入口组件中的流体入口管周围，从而将入口管耦合到壁，其中弹性元件的内部表面和外部表面中的一个表面受到在压力容器内主导的压力并且另一表面受到环境压力，以及其中流体入口管防止被携带到内部的流体与弹性元件接触。

在某些示例实施例中，本公开的装置提供了经压力调整的入口夹紧。在某些示例实施例中，弹性元件被配置为：由于在环境压力与压力容器的内部内主导的压力之间的压力差而压靠压力容器。

在某些示例实施例中，压力容器被密封意味着反应容器是关闭的或可关闭的室。

在某些示例实施例中，弹性元件被配置为在装置或组件的固定部件之间的位移下变形。在某些示例实施例中，弹性元件是气密的或大部分是气密的。当弹性元件仅大部分是气密的时，通过元件的气体泄漏优选地仅是小泄漏，以保持分离的压力区域。

在某些示例实施例中，密封压力容器形成包围内室的外室，该内室是密封反应室。

在某些示例实施例中，流体入口组件被附接到反应室壁。在某些示例实施例中，流体入口组件被附接到包围反应室的外室。因此，取决于实现方式，上述的密封压力容器可以指外室或指反应室(反应室具有或不具有将其包围的外室)。

在某些示例实施例中，入口管被布置为通过经由装置的内部(或反应室)向内移除入口管的至少一部分而被拆卸。

在某些示例实施例中，入口管被布置为通过将入口管的至少一部分向外移除至背离装置(或反应室)的方向而被拆卸。

在某些示例实施例中，入口管被布置为处于相对于反应室壁的固定位置。在这种实施例中，入口管可以被布置为在其他点或接头处变形或弯曲。

在某些示例实施例中，入口管被布置为处于相对于反应室壁的可旋转位置。在这种实施例中，入口管可以被布置为在其他点或接头处变形或弯曲。

在某些示例实施例中，弹性元件被配置为引起对入口管的机械压力。

在某些示例实施例中，机械压力的方向朝向反应室向内。