[发明专利]衬底处理装置和方法

权利要求书

1.一种衬底处理装置，包括：

密封压力容器；

流体入口组件，被附接到所述密封压力容器的壁，所述流体入口组件具有穿过所述壁的流体入口管，所述装置还包括：

弹性元件，在所述流体入口组件中的所述流体入口管周围，从而将所述入口管耦合到所述壁，其中所述弹性元件的内部表面和外部表面中的一个表面受到在所述压力容器内主导的压力并且另一表面受到环境压力，以及其中所述流体入口管防止被携带到内部的流体与所述弹性元件接触。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述弹性元件被配置为在装置或组件的固定部件之间的位移下变形。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述密封压力容器形成包围内室的外室，所述内室是密封反应室。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述弹性元件被配置为引起对所述入口管的机械压力。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述机械压力的方向朝向所述反应室向内。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述入口管由被布置为在彼此内部滑动的两个管形成。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述反应室包括衬圈，所述衬圈将所述入口管在其位置中锁定。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述入口管被布置为通过经由所述装置的内部向内移除所述入口管的至少一部分而被拆卸。

9.根据前述权利要求1至7中的任一项所述的装置，其中所述入口管被布置为通过将所述入口管的至少一部分向外移除至背离所述装置的方向而被拆卸。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述入口管被布置为处于相对于反应室壁的固定位置。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述入口管被布置为处于相对于反应室壁的可旋转位置。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述入口管配备有热分配元件，以沿着所述入口管分配热。

13.根据权利要求12所述的装置，其中所述热分配元件在所述密封压力容器的所述壁的馈通点之上延伸。

14.根据权利要求3所述的装置，其中在所述入口管与所述反应室相接处的接触点是非永久固定点。

15.根据权利要求14所述的装置，其中所述接触点是密封和/或加强的。

16.一种在衬底处理装置中的方法，包括：

向密封压力容器提供：流体入口组件，被附接到所述密封压力容器的壁，所述流体入口组件具有穿过所述壁的流体入口管；以及弹性元件，在所述流体入口组件中的所述流体入口管周围，从而将所述入口管耦合到所述壁，其中所述弹性元件的内部表面和外部表面中的一个表面受到在所述压力容器内主导的压力并且另一表面受到环境压力，以及其中所述流体入口管防止被携带到内部的流体与所述弹性元件接触，所述方法还包括：

经由所述弹性元件的收缩而引起对所述入口管的机械压力，所述机械压力的方向朝向所述压力容器的内部。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述机械压力由在所述压力容器内主导的所述压力与所述环境压力之间的压力差引起。