[发明专利]可注射药物输送装置的剂量控制系统及其使用方法

权利要求书

1.一种剂量控制系统，其配置为用于可注射药物输送装置，所述药物输送装置包括细长的药物输送主体和可旋转剂量设定轮，所述主体保存至少一种可注射药物，所述主体具有远端和近端，所述可旋转剂量设定轮位于所述药物输送主体的近端，围绕所述药物输送主体的纵轴可旋转，其中所述剂量控制系统包括：

盘形的直径单级磁铁，在所述药物输送主体的近端，可拆卸地连接或永久固定到所述可旋转剂量轮；

壳体，可拆卸地连接到所述药物输送主体的近端，所述可拆卸连接的壳体包括：

至少第一和第二磁场测量装置，其配置为测量由所述盘形的直径单级磁铁产生的磁场；

集成控制单元，连接到所述至少第一和第二磁场测量装置，其配置成处理从所述至少第一和第二磁场测量装置接收的信息；

其中：

所述至少第一和第二磁场测量装置相对于药物输送主体和所述盘形的直径单级磁铁的纵轴以轴向位移关系位于所述可拆卸连接的壳体中；

所述盘形的直径单级磁铁构造成与所述剂量设定轮围绕所述药物输送主体的纵轴共同旋转；并且

所述集成控制单元还配置为：

提供关于所述磁场测量装置的轴向位移关系的标准化向量，所述标准化向量来自于由所述盘形的直径单级磁铁旋转产生并由所述磁场测量装置测量的测量磁场，并且

从所述标准化向量来计算角度旋转位置从而计算剂量设定。

2.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述集成控制单元配置为计算所述磁场测量装置的校正偏移值。

3.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述至少第一和第二磁场测量装置位于所述可拆卸地连接的壳体中，与所述药物输送装置主体的近端相邻。

4.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述至少第一和第二磁场测量装置位于所述壳体内远离近端。

5.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述至少第一和第二磁场测量装置位于所述壳体内设置的支撑结构上。

6.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述第一和所述第二磁场检测不与所述盘形的直径单极磁铁轴向对准。

7.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述至少第一和第二磁场测量装置是第一磁强计及第二磁强计，并且其中所述第一磁强计和所述第二磁强计配置为同时且独立地测量由所述盘形的直径单级磁铁围绕所述药物输送装置主体的纵轴旋转而产生的磁场。

8.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述至少第一和第二磁场测量装置进一步配置成测量当所述盘形的直径单级磁铁沿着所述药物输送装置主体的纵轴平移时产生的磁场。

9.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述集成控制单元进一步配置为通过以下公式计算所述磁场测量装置的偏移值：

其中x、y和z是磁场的三个正交轴，并且：

x_i、y_i和z_i是由测量磁场的相应向量生成的一系列点，类似于三维的点云，所述点云通过以下系数球形化：

10.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，所述集成控制单元进一步配置为通过以下公式校正磁偏移值：

11.如权利要求1所述的剂量控制系统，其中，集成处理单元配置为校正由所述磁场测量装置测量的磁场值，其作为所述磁场测量装置相对于所述盘形的直径单级磁铁的非轴对准的函数。