[发明专利]与散射测量术测量中的光栅非对称相关的不精确性的减轻

权利要求书

1.一种散射测量术叠加SCOL目标，其沿着至少一个测量方向包括：

两个单元，其具有至少在第一晶片层和第二晶片层处的具有指定粗节距的周期性结构，其中所述第一晶片层设置在所述第二晶片层上方，其中所述两个单元具有相应层中的顶部周期性结构相对于底部周期性结构的相反偏移，

其中所述两个单元中的第一者具有在所述第一晶片层处的具有所述指定粗节距的周期性结构，及在所述第二晶片层处的亚解析周期性结构，及

其中所述两个单元中的第二者具有在所述第二晶片层处的具有所述指定粗节距的周期性结构，及在所述第一晶片层处的亚解析周期性结构，

其中所述指定粗节距是至少500nm，且所述亚解析周期性结构具有小于300nm的亚解析节距，其中所述两个单元中的所述第一者中的所述亚解析周期性结构经配置以与所述两个单元中的所述第一者中的具有所述指定粗节距的所述周期性结构具有相同的填充因子，且其中所述两个单元中的所述第二者中的所述亚解析周期性结构经配置以与所述两个单元中的所述第二者中的具有所述指定粗节距的所述周期性结构具有相同的填充因子，

其中所述周期性结构具有沿着两个X测量方向及Y测量方向中的每一者的单元，其中所述单元中的八个单元经布置成两行，每一行具有相对于所述测量方向具有相同空间布置的所述单元中的四个单元，其中所述行中的每一者包括沿着所述行单独交替的两个X方向单元和两个Y方向单元，使得所述行中的所述X方向单元中的一者邻近于所述行中的Y方向单元中的两者，且使得所述行中的所述Y方向单元中的一者邻近于所述行中的所述X方向单元中的两者。

2.根据权利要求1所述的SCOL目标，其中所述亚解析节距小于100nm。

3.一种根据权利要求1设计的目标的目标设计文件。

4.一种用于将单元新增到散射测量术叠加SCOL目标的方法，所述方法包括沿着至少一个测量方向将具有至少在第一晶片层和第二晶片层处的具有指定粗节距的周期性结构的两个单元新增到所述SCOL目标，其中所述第一晶片层设置在所述第二晶片层上方，其中所述两个单元具有在所述第一晶片层和所述第二晶片层中的顶部周期性结构相对于底部周期性结构的相反偏移，其中所述两个单元中的一者具有在所述第一晶片层处的具有所述指定粗节距的周期性结构，及在所述第二晶片层处的亚解析周期性结构，且所述两个单元中的另一者具有在所述第二晶片层处的具有所述指定粗节距的周期性结构，及在所述第一晶片层处的所述亚解析周期性结构，其中所述指定粗节距是至少500nm，且所述亚解析周期性结构具有小于300nm的亚解析节距，其中所述两个单元中的所述亚解析周期性结构经配置以与所述两个单元中的具有所述指定粗节距的所述周期性结构具有相同的填充因子，其中所述周期性结构具有沿着两个X测量方向及Y测量方向中的每一者的单元，其中所述单元中的八个单元经布置成两行，每一行具有相对于所述测量方向具有相同空间布置的所述单元中的四个单元，其中所述行中的每一者包括沿着所述行单独交替的两个X方向单元和两个Y方向单元，使得所述行中的所述X方向单元中的一者邻近于所述行中的Y方向单元中的两者，且使得所述行中的所述Y方向单元中的一者邻近于所述行中的所述X方向单元中的两者。

5.根据权利要求4所述的方法，其进一步包括用正交偏光照明辐射，沿着所述两个测量方向来测量所述单元。

6.根据权利要求5所述的方法，其中针对具有正交偏光照明光点对的单元对，同时实行所述测量。

7.根据权利要求4所述的方法，其中所述亚解析节距小于100nm。