[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及蒸镀掩模的制造装置有效

专利信息
申请号: 201780086024.5 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN110268090B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 成谷元嗣 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;王娟娟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 蒸镀掩模 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种蒸镀掩模,其特征在于,具备:

掩模主体,其具有形成了图案开口的图案部和包围所述图案部的框部;以及

掩模框架,其对所述框部进行支撑,

所述框部具有与所述掩模框架交叉的端面,

所述掩模主体在所述端面处被固定于所述掩模框架,

在所述框部的外缘形成有厚度比所述框部的其他部位薄的薄壁部,所述薄壁部的包含端面的部分被固定于所述掩模框架。

2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述掩模框架具有:掩模框架基材;以及接合部件,所述接合部件被配置在所述掩模框架基材的配置有所述掩模主体的一侧,

所述掩模主体被固定于所述接合部件。

3.根据权利要求2所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述接合部件的厚度为0.2mm以下。

4.根据权利要求1所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述掩模框架保持多个所述掩模主体。

5.根据权利要求1所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述掩模主体是电铸掩模。

6.根据权利要求2所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述接合部件比所述薄壁部薄。

7.一种蒸镀掩模,其特征在于,具备:

掩模主体,其具有形成了图案开口的图案部和包围所述图案部的框部;以及

掩模框架,其对所述框部进行固定,

所述掩模框架具有:掩模框架基材;以及接合部件,所述接合部件被配置在所述掩模框架基材的配置有所述掩模主体的一侧,并且与所述掩模主体接触,

所述框部具有:第1区域;以及第2区域,所述第2区域位于所述第1区域的外侧,并且包含与所述接合部件交叉的侧面,

第2区域比所述第1区域薄,

所述接合部件比所述第2区域薄。

8.根据权利要求7所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述接合部件的刚性低于所述框部的刚性,

所述侧面具有:第3区域;以及多个第4区域,所述多个第4区域为点状,并且表面比所述第3区域的表面粗糙。

9.根据权利要求8所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述第4区域是所述框部与所述掩模框架的焊痕。

10.根据权利要求7所述的蒸镀掩模,其特征在于,

所述接合部件由殷钢形成。

11.一种蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,依次包括如下工序:

将掩模主体配置到掩模框架上,其中,所述掩模主体具有形成了图案开口的图案部和包围所述图案部的框部,所述掩模框架对所述框部进行支撑;以及

将所述框部的包含端面的部分焊接到所述掩模框架上,

所述掩模框架具有:掩模框架基材;以及接合部件,所述接合部件被配置在所述掩模框架基材的配置有所述掩模主体的一侧,

所述框部具有:第1区域;以及第2区域,所述第2区域位于所述第1区域的外侧,并且包含所述端面,

第2区域比所述第1区域薄,

所述接合部件比所述第2区域薄。

12.根据权利要求11所述的制造方法,其特征在于,

对所述端面照射激光,将所述掩模主体焊接于所述掩模框架。

13.根据权利要求11所述的制造方法,其特征在于,

将所述端面焊接于所述接合部件。

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