[发明专利]用于对复杂样本进行质量分析的方法、装置和存储介质有效

专利信息
申请号: 201780084101.3 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN110178182B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: S.J.格罗马诺斯;C.德夫林;S.J.恰瓦里尼 申请(专利权)人: 沃特世科技公司
主分类号: G16B20/00 分类号: G16B20/00;G16B40/00;H01J49/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 高苇娟;申屠伟进
地址: 美国麻*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 复杂 样本 进行 质量 分析 方法 装置 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种计算机实现的样本分析方法,所述方法包括:

访问经由对包括至少一个目标前体的样本进行质量分析生成的至少一个产物离子数据集;

访问所述至少一个目标前体的多种组分元素的前体组合物信息,所述前体组合物信息包括所述多种组分元素的至少一部分的标称质量信息和质量亏损信息;

确定与所述至少一个目标前体相关联的多个离子碎片的标称质量-质量亏损关系信息,所述标称质量-质量亏损关系信息包括标称质量相对于质量亏损信息,所述标称质量-质量亏损关系信息基于所述前体组合物信息;

确定所述多个离子碎片的所述标称质量相对于质量亏损信息的至少一个离子碎片上界和所述多个离子碎片的所述标称质量相对于质量亏损信息的至少一个离子碎片下界,

所述至少一个碎片上界包括B最大离子与B1离子之间的第一回归线拟合,

所述第一回归线拟合与第一上界和第一下界相关联,所述第一上界和所述第一下界每个是距所述第一回归线拟合的阈值距离,

所述至少一个碎片下界包括Y最大离子与Y1离子之间的第二回归线拟合,

所述第二回归线拟合与第二上界和第二下界相关联,所述第二上界和所述第二下界每个是距所述第二回归线拟合的阈值距离;

经由将所述至少一个离子碎片上界和所述至少一个离子碎片下界应用于所述标称质量相对于质量亏损信息并且选择在所述至少一个离子碎片上界和所述至少一个离子碎片下界之间捕获的候选产物离子而从所述多个离子碎片提取多个候选离子碎片;以及

基于与所述多个候选离子碎片相关联的裂解效率信息而从所述多个候选离子碎片确定多个目标离子碎片,所述多个目标离子碎片属于所述至少一个目标前体。

2.根据权利要求1所述的方法,包括生成所述多个目标离子碎片的光谱数据。

3.根据权利要求1所述的方法,所述至少一种目标前体包括肽,并且所述多种组分元素包括氨基酸。

4.根据权利要求1所述的方法,所述标称质量-质量亏损关系信息包括所述多个离子碎片的标称质量相对于质量亏损的图。

5.一种可操作以执行样本分析的装置,所述装置包括:

处理电路;和

逻辑,所述逻辑耦接到至少一个存储器,用以:

访问经由对包括至少一个目标前体的样本进行质量分析生成的至少一个产物离子数据集;

访问所述至少一个目标前体的多种组分元素的前体组合物信息,所述前体组合物信息包括所述多种组分元素的至少一部分的标称质量信息和质量亏损信息;

确定与所述至少一个目标前体相关联的多个离子碎片的标称质量-质量亏损关系信息,所述标称质量-质量亏损关系信息包括标称质量相对于质量亏损信息,所述标称质量-质量亏损关系信息基于所述前体组合物信息;

确定所述多个离子碎片的所述标称质量相对于质量亏损信息的至少一个离子碎片上界和所述多个离子碎片的所述标称质量相对于质量亏损信息的至少一个离子碎片下界,

所述至少一个碎片上界包括B最大离子与B1离子之间的第一回归线拟合,

所述第一回归线拟合与第一上界和第一下界相关联,所述第一上界和所述第一下界每个是距所述第一回归线拟合的阈值距离,

所述至少一个碎片下界包括Y最大离子与Y1离子之间的第二回归线拟合,

所述第二回归线拟合与第二上界和第二下界相关联,所述第二上界和所述第二下界每个是距所述第二回归线拟合的阈值距离;

经由将所述至少一个离子碎片上界和所述至少一个离子碎片下界应用于所述标称质量相对于质量亏损信息并且选择在所述至少一个离子碎片上界和所述至少一个离子碎片下界之间捕获的候选产物离子而从所述多个离子碎片提取多个候选离子碎片;以及

基于与所述多个候选离子碎片相关联的裂解效率信息而从所述多个候选离子碎片确定多个目标离子碎片,所述多个目标离子碎片属于所述至少一个目标前体。

6.根据权利要求5所述的装置,所述逻辑用以生成所述多个目标离子碎片的光谱数据。

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