[发明专利]规定浓度水的供给方法及装置

说明书

一种规定浓度水的供给方法及装置，该规定浓度水的供给方法是在超纯水中添加导电性的第1液及非导电性的第2液至少2种液体来制造含有规定浓度的第1液成分及第2液成分的规定浓度水的工序，在所述规定浓度水的供给方法中，事先制备将所述第1液与第2液预先以规定混合比混合而成的混合液，将该混合液添加至超纯水，以使添加后的超纯水的导电率或电阻率成为规定值。

技术领域

本发明涉及用来供给规定浓度的水的方法及装置，特别涉及将导电性的第1液与非导电性的第2液混合并添加至超纯水来制备、供给规定浓度的水的规定浓度水的供给方法及装置。

更详细而言，本发明涉及适于供给在半导体用晶片的洗涤、清洗(rinse)工序中有效的且含有碱、氧化剂等极低浓度的溶质的洗涤水的方法及装置。

背景技术

在半导体用硅晶片等的洗涤及清洗工序中，有时会使用将对pH、氧化还原电位的控制有效的溶质以极低浓度溶解而成的水(在此称为稀洗涤水)。以超纯水为基本材料，为了使其具备符合洗涤、清洗等工序的目的的pH、氧化还原电位等液体特性，会添加必要最小限度的酸、碱、氧化剂、还原剂。有使H₂、NH₃、O₃这些还原性、碱性、酸性的气体溶解于超纯水的方法，但微量添加药液(注药)的方法也简便，被加以有效利用。

作为注药的方法，有使用泵的方法、使用基于密闭容器与N₂等非活性气体进行的加压的方法，已各自实用化。

稀洗涤水的供给中，为使溶质浓度落在期望范围，进行接收浓度监控器的信号的PID控制、对超纯水流量的比例控制等基于各式各样的方法的溶解控制。作为在半导体的洗涤工序中大多使用的药液的一种，可举出H₂O₂，即使在洗涤机中使用的流量有变动的情况下，仍始终要求严格的浓度控制。但是，不是将H₂O₂单独用于洗涤，而是多和酸、碱等药液混合使用。

作为测定H₂O₂的浓度的方法，使用比色滴定的方法为主流，作为在线(online)监控的方法，有由平沼产业(股)销售的“Process Titrator AHP310”。此外有由Aero LaserGmbH销售的同样运用了吸光亮度的“AL2021”。但该些方法中，为了测定必须使用规定的试剂，试剂管理及调整会变得繁杂。

在日本特开2012-63303号公报中，记载有通过使水中的过氧化氢分解，测定溶解氧的浓度，从而不使用试剂而将H₂O₂浓度定量，但需要脱气装置从而装置会变得繁杂，并且会依赖DO计的灵敏度，因此存在不能正确地测定低浓度域的问题。

如此地，对现有的方法而言，在洗涤机中使用的流量有变动的情况下，不能始终进行严格的浓度控制。此外，不能充分进行ppb水平的PID控制，从而不能进行微量浓度域的控制。其结果，浇注于晶片的洗涤水、清洗水的液质停留在与理想值相距甚远的广范围内的控制。

虽然也有以液质稳定化为优先，事先以规定的条件制造稀洗涤水，并进行贮藏，从贮藏槽持续供给的单纯方法，但在此情况下，必须将大规模的贮水槽设置于制造晶片的无尘室内的洗涤机附近，因而不切实际。

专利文献1：日本特开2012-63303号公报。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种将导电性的第1液与非导电性的第2液以规定浓度添加至超纯水从而有效率地制造、供给规定浓度水的规定浓度水的供给方法及装置。本发明在其中的一个方式中，目的在于提供一种能够有效率地制造、供给以规定浓度含有H₂O₂的稀洗涤水的规定浓度水的供给方法及装置。