[发明专利]六方氮化硼粉末、其生产方法、树脂组合物和树脂片材在审

专利信息
申请号: 201780080479.6 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN110114306A 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 大冢雄树;深泽贤 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: C01B21/064 分类号: C01B21/064;C04B35/583;C08K3/38
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李颖;林柏楠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 树脂组合物 初级粒子 树脂片材 六方氮化硼粉末 粒度分布曲线 双峰分布 基频率 聚集体 峰高 振实 生产
【权利要求书】:

1.一种六方氮化硼粉末,其包含六方氮化硼的初级粒子的聚集体,其中

所述粉末具有10或更大和25或更小的初级粒子的平均长径(L1)与平均厚度(d1)之比[L1/d1]、0.80g/cm3或更大的振实密度和小于5.0m2/g的BET比表面积,

显示六方氮化硼粉末的体积基频率分布的粒度分布曲线是具有在500μm或更小的粒径范围内的第一峰和存在于第一峰的较小粒度侧的第二峰的双峰分布曲线,且

第二峰的高度(HB)与第一峰的高度(HA)的峰高比[(HB)/(HA)]为0.90或更小。

2.根据权利要求1的六方氮化硼粉末,其中所述粉末在显示分级为具有45μm或更大和95μm或更小的粒度的六方氮化硼粉末的体积基频率分布的粒度分布曲线中具有在45μm或更大和150μm或更小的粒度范围内的一个最大峰,并且在对通过将所述分级的六方氮化硼粉末分散在水中而获得的分散液施以超声处理1分钟时具有35%或更大和70%或更小的最大峰值下降率,所述峰值下降率通过如下表达式(1)计算:

峰值下降率=[(处理前的最大峰高(a))-(处理后的最大峰高(b))]×100/(处理前的最大峰高(a)) (1)。

3.根据权利要求1或2的六方氮化硼粉末,其具有或更大和或更小的微晶粒度。

4.根据权利要求1至3中任一项的六方氮化硼粉末,其中所述初级粒子的平均长径(L1)为0.5μm或更大和20μm或更小。

5.一种树脂组合物,其包含10体积%或更多和90体积%或更少的根据权利要求1至4任一项的六方氮化硼粉末。

6.一种树脂片材,其包含根据权利要求5的树脂组合物或其固化产物。

7.一种生产根据权利要求1至4中任一项的六方氮化硼粉末的方法,所述方法包括如下步骤:混合100质量份的包含50质量%或更多和90质量%或更少的氮化硼细粉(A)和10质量%或更多和50质量%或更少的X=0至3的组成式B2O(3+X)H2X所示的硼化合物(B)的混合粉末、以碳计1.0质量份或更多和20质量份或更少的碳源(C)和0.01质量份或更多和5.0质量份或更少的钙化合物(D),模制所得混合物,然后在含氮气的气氛下烧制所得物,其中

所述氮化硼细粉(A)具有2.0或更大和15或更小的其初级粒子的平均长径(L2)与平均厚度(d2)之比[L2/d2]、0.20μm或更大和5.0μm或更小的50%体积累积粒度D50、5.0m2/g或更大和30m2/g或更小的BET比表面积和或更大和或更小的微晶粒度。

8.根据权利要求7的生产六方氮化硼粉末的方法,其中所述碳源(C)是选自石墨和碳化硼的至少一种。

9.根据权利要求7或8的生产六方氮化硼粉末的方法,其中所述碳源(C)是碳化硼,且所述碳化硼具有1.0μm或更大和200μm或更小的50%体积累积粒度D50

10.一种生产通过将由根据权利要求7至9中任一项的生产方法获得的六方氮化硼粉末进一步分级而得到的分级的六方氮化硼粉末的方法,其中

显示所述分级的六方氮化硼粉末的体积基频率分布的粒度分布曲线是具有在500μm或更小的粒度范围内的最大峰的单峰分布曲线。

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