[发明专利]透明导电膜的形成方法以及电镀用镀敷液有效

专利信息
申请号: 201780076688.3 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN110062820B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 星野秀树;大屋秀信;山内正好;小俣猛宪;新妻直人 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D5/02;C25D7/00;H05K3/18;H05K3/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 透明 导电 形成 方法 以及 电镀 用镀敷液
【权利要求书】:

1.一种透明导电膜的形成方法,其包括:

通过印刷法在透明基材上形成包含导电性细线的透明导电膜中间体,

然后,对所述透明导电膜中间体进行电镀以形成透明导电膜,

用于所述电镀的镀敷液中含有氧化剂。

2.根据权利要求1所述的透明导电膜的形成方法,其中,所述氧化剂是选自过硫酸钠、氯化铜及过氧化氢中的一种或多种。

3.根据权利要求1或2所述的透明导电膜的形成方法,其中,所述镀敷液的氧化还原电位为350mV~700mV(vs Ag/AgCl)。

4.根据权利要求1或2所述的透明导电膜的形成方法,其中,

所述印刷法中,在所述透明基材上施加含有导电性材料的线状液体,然后,使所述线状液体干燥的过程中,通过使所述导电性材料选择性地堆积在所述线状液体的边缘,形成所述导电性细线。

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