[发明专利]X射线相位成像装置有效
申请号: | 201780071767.5 | 申请日: | 2017-09-06 |
公开(公告)号: | CN110049725B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 堀场日明;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G01N23/20 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 姚开丽 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 相位 成像 装置 | ||
一种X射线相位成像装置(100),其包括控制部(5),所述控制部(5)针对已通过调整机构部(3)而变化的被摄物(S)与成像光栅部(G1)的多个相对的位置的各个,分别生成暗视场像(Iv),获取各个暗视场像中(Iv)的感兴趣区域(ROI)的对比度,并且以根据已获取的各个对比度,调整被摄物(S)与成像光栅部(G1)的相对的位置的方式控制调整机构部(3)。
技术领域
本发明涉及一种X射线相位成像装置,且特别涉及一种进行光栅与被摄物的相对的位置的移动的X射线相位成像装置。
背景技术
以前,已知有一种进行光栅与被摄物的相对的位置的移动的X射线相位成像装置。例如在日本专利特表2015-529510号公报中公开了此种X射线相位成像装置。
在所述日本专利特表2015-529510号公报中公开了一种相位微分对比度摄像用的X射线摄像系统装置(X射线相位成像装置),其包括:X射线源、X射线的检测部、光栅装置(grating arrangement)、相位微分装置、及处理单元(控制部)。在此X射线摄像系统装置中,光栅装置具有配置在X射线源与检测部之间的相位光栅(phase grating)(成像光栅部)、配置在相位光栅与X射线源之间的源光栅(source grating)(光源光栅部)、及配置在相位光栅与检测部之间的分析光栅(吸收光栅部)。另外,相位微分装置包含光栅装置、及用于正在检查的对象物(被摄物)与至少一个光栅之间的相对移动的移动装置(调整机构部)。而且,此X射线摄像系统装置为了使由光栅所生成的规定的莫尔图案(moire pattern)(成为表示X射线的相位的变化的相位微分像的基础的像)产生,以使源光栅并进的方式构成。另外,此X射线摄像系统装置以进行相位微分装置(装置中与被拍摄的X射线的光学路径相关的构件)与正在检查的对象物(被摄物)的相对移动的方式构成。
另外,以前已知有如下的方法,当在射入光栅中的X射线的路径上存在正在检查的对象物(被摄物)时与不存在正在检查的对象物(被摄物)时,在相对于照射至相位光栅(成像光栅部)中的X射线大致垂直且变成与相位光栅所具有的一条一条的光栅的延长方向大致垂直的方向上移动,针对相位光栅的多个不同的位置的各个,拍摄由相位光栅所产生的多个光栅像(X射线图像),并进行比较。在此方法中,通过对多个光栅像(X射线图像)进行比较,而获取起因于由被摄物的有无所产生的X射线的散射的表示X射线的清晰度的变化的暗视场像。
[现有技术文献]
[专利文献]
专利文献1:日本专利特表2015-529510号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
在所述日本专利特表2015-529510号公报的相位微分对比度摄像用的X射线摄像系统装置(X射线相位成像装置)中,以使对象物(被摄物)与各光栅部的相对位置、或被摄物与相位微分装置(装置中与被拍摄的X射线的光学路径相关的构件)的相对位置移动,由此规定的莫尔图案适当地出现的方式进行调整。但是,即便莫尔图案已作为X射线图像整体而适当地出现,也依存于各光栅部中所包含的一条一条的光栅延长的方向,产生暗视场像中的X射线散射的信息被适当地检测的部分、及几乎不被检测的部分。具体而言,X射线的散射在相对于光栅延长的方向垂直的方向上容易被捕捉(即,对比度(contrast)变高),另一方面,在沿着光栅延长的方向的方向上难以捕捉(对比度变低)。因此,即便以莫尔图案适当地出现的方式进行了调整,也存在未必可在暗视场像中的被摄物的感兴趣区域(region ofinterest)中充分地获得对比度这一问题点。
本发明是为了解决如上所述的问题而成者,本发明的一个目的在于提供一种可在暗视场像中的被摄物的感兴趣区域中充分地获得对比度的X相位成像装置。
[解决问题的技术手段]
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