[发明专利]X射线相位成像装置有效
申请号: | 201780071767.5 | 申请日: | 2017-09-06 |
公开(公告)号: | CN110049725B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 堀场日明;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G01N23/20 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 姚开丽 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 相位 成像 装置 | ||
1.一种X射线相位成像装置,包括:
X射线源,对被摄物照射X射线;
成像光栅部,通过从所述X射线源照射至所述被摄物上的所述X射线穿过而生成光栅像;
检测部,对穿过了所述成像光栅部的所述X射线进行检测;
调整机构部,使所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置变化的同时进行调整;以及
控制部,针对已通过所述调整机构部而变化的所述被摄物与所述成像光栅部的多个相对的位置的各个,根据由所述检测部所检测到的所述X射线的信号,分别生成表示所述被摄物存在时与所述被摄物不存在时的X射线的清晰度的变化的暗视场像,获取各个所述暗视场像中的感兴趣区域的对比度,并且以根据已获取的各个所述对比度调整所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置的方式,控制所述调整机构部。
2.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其中所述控制部使所述调整机构部以对应于所述感兴趣区域的所述对比度相对地变高的所述暗视场像的方式,调整所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置。
3.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其中所述控制部以如下方式构成:当根据已获取的各个所述对比度,使所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置变化时,根据所述对比度,使所述感兴趣区域的位置追随所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置的变化。
4.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其中所述控制部以如下方式构成:针对所述被摄物与所述成像光栅部的多个相对的位置,分别获取所述暗视场像及所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置的信息,并且将所述暗视场像与相对的位置的信息建立关联来存储。
5.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其中所述控制部以如下方式构成:使所述被摄物与所述成像光栅部中的至少一者从在第一方向上所获得的多个所述暗视场像的所述感兴趣区域的所述对比度被判断为最大的所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置,朝与所述第一方向不同的第二方向上的所述被摄物与所述成像光栅部的多个相对的位置移动,而增加所述暗视场像的所述对比度,其中所述第一方向为所述X射线相位成像装置调整机构部的Z轴旋转方向,所述第二方向为所述调整机构部的Y轴旋转方向。
6.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其中所述控制部以如下方式构成:根据所述感兴趣区域中的像素值的平均值与背景区域中的像素值的平均值的差的绝对值,获取所述暗视场像的所述对比度。
7.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其还包括以下各部的至少一者:吸收光栅部,配置在所述X射线源与所述检测部之间,并且从所述X射线源来看配置在所述被摄物及所述成像光栅部的后方,用于检测由所述成像光栅部所生成的所述光栅像;以及光源光栅部,配置在所述X射线源与所述检测部之间,并且从所述X射线源来看配置在所述被摄物及所述成像光栅部的前方,用于以已穿过的所述X射线发生干涉的方式使相位一致;且
所述调整机构部以如下方式构成:在调整所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置时,维持所述吸收光栅部及所述光源光栅部的至少一者与所述成像光栅部的相对的位置。
8.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其中所述调整机构部以如下方式构成:一边维持所述X射线源及所述检测部的相对于所述成像光栅部的相对的位置,一边调整所述被摄物与所述成像光栅部的相对的位置。
9.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其中所述控制部以还获取表示所述被摄物对X射线的吸收程度的吸收像、及表示由所述被摄物所引起的X射线的相位的变化的相位微分像的方式构成。
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