[发明专利]导电性膜和导电性膜的制造方法有效
申请号: | 201780070104.1 | 申请日: | 2017-11-14 |
公开(公告)号: | CN109937458B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 藤平惠;清水诚吾;山田俊辅;山木繁;基里达·古纳努鲁克萨蓬 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;B05D7/24;B05D5/12;B32B27/18 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电性 制造 方法 | ||
1.一种导电性膜,其具有:
高分子膜;
基底树脂层,其形成在所述高分子膜的至少一面;以及
导电层,其形成在所述基底树脂层之上,包含平均直径为1~100nm且长宽比的平均为100~2000的金属纳米线和粘结剂树脂,
所述导电层的表面电阻值为1.0×103~1.0×106Ω/□且所述表面电阻值的偏差为15%以下,
所述导电层中的所述粘结剂树脂的含有量相对于所述导电层中的所述金属纳米线100质量份为1000~2000质量份,
所述基底树脂层中使用的基底树脂和所述导电层中使用的所述粘结剂树脂均由具有-SO3Na基的聚酯树脂构成。
2.根据权利要求1所述的导电性膜,其中,
所述导电层中的所述金属纳米线的占有面积率的范围为1.5~4.5%。
3.根据权利要求1所述的导电性膜,其中,
总透光率为80%以上且雾度值为0.1~1.5%。
4.根据权利要求1所述的导电性膜,其中,
所述基底树脂与所述粘结剂树脂为相同成分的树脂。
5.一种制造权利要求1~4中任一项所述的导电性膜的制造方法,具有:
在高分子膜的至少一面形成基底树脂层的工序;以及
将包含平均直径为1~100nm且长宽比的平均为100~2000的金属纳米线、粘结剂树脂和溶剂的金属纳米线墨涂敷在形成于所述高分子膜的所述基底树脂层上并使其干燥,由此形成导电层的工序,
所述导电层中的所述粘结剂树脂的含有量相对于所述导电层中的所述金属纳米线100质量份为1000~2000质量份。
6.根据权利要求5所述的导电性膜的制造方法,其中,
所述溶剂为水和醇的混合溶剂,并且以全溶剂中的1~50质量%的范围包含碳原子数为1~3的饱和一元醇。
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