[发明专利]包含上升管装置和降液管的气相反应器中的烯烃聚合方法

权利要求书

1.一种用来制备乙烯聚合物的方法，其包含在气相聚合反应器中在聚合催化剂的存在下将乙烯均聚或者将乙烯与一种或多种共聚单体共聚，所述气相聚合反应器包含生长聚合物颗粒在流化、快速流化或输送条件下向上流动的上升管装置以及生长聚合物颗粒以致密化形式向下流动的降液管，其中所述降液管中的聚合物颗粒的滞留量是所述气相聚合反应器中的聚合物颗粒的总滞留量的55 wt.%至80 wt.%。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述气相聚合反应器是多区循环反应器，其中所述上升管装置是生长聚合物颗粒在快速流化或输送条件下向上流动的上升管，所述上升管和所述降液管互相连接，离开所述上升管的聚合物颗粒进入所述降液管，并且离开所述降液管的聚合物颗粒进入所述上升管，用来通过所述上升管和所述降液管建立聚合物颗粒的循环。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述生长聚合物颗粒向上流动的所述上升管装置包含生长聚合物颗粒流化床。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述气相聚合反应器包含两个或更多个聚合区，并且所述聚合区具有的反应气体混合物中的惰性组分的含量为30至99 vol.%。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述乙烯聚合物是共聚单体含量为0.01 wt.%至15 wt.%的乙烯共聚物，其通过将乙烯与一种或多种C₃-C₈-1–烯烃共聚来制备。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述上升管装置中的比压降Δp/h在从500 Pa/m至3000 Pa/m的范围内，h是所述上升管装置的高度，Δp是所述上升管装置的底部与顶部之间的压差。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中液体形式的屏障流体被进料至所述生长聚合物颗粒以致密化形式向下流动的所述聚合装置中。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述上升管装置和所述降液管中的反应气体混合物在其组成方面不同，所述降液管中的反应气体混合物具有比所述上升管装置中的反应气体混合物更低的乙烯含量。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中包含乙烯和任选的一种或多种共聚单体、惰性组分和/或氢气的气体流或液体流在一个或多个单体进料点处进料至所述降液管中。

10.根据权利要求9所述的方法，其中包含乙烯以及任选的一种或多种共聚单体、惰性组分或氢气的气体流或液体流在至少3个单体进料点处进料至所述降液管中，并且两个相邻单体进料点之间的聚合物颗粒的滞留量不大于所述降液管中的聚合物颗粒的总滞留量的35 wt.%。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述降液管具有多个子区，其在所述降液管中的所述子区中的反应气体混合物的组成方面不同。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中包含所述上升管装置和所述降液管的所述气相聚合反应器是反应器级联的一部分。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述反应器级联在包含所述上升管装置和所述降液管的所述气相聚合反应器的上游包含流化床反应器。

14.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述聚合催化剂是齐格勒催化剂或齐格勒-纳塔催化剂，其包含烷基铝与负载在卤化镁上的钛化合物的反应产物。

15.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述乙烯聚合物根据DIN EN ISO 1183-1：2004的方法A（浸入法）所测定具有0.916至0.964 g/cm³的密度，并且根据DIN EN ISO1133-1：2012-03所测定在190℃的温度和21.6 kg的负载下具有0.5至300 g/10 min的MFR_21.6。