[发明专利]透明导电基板和其制造方法

说明书

本发明的课题是提供不仅具有良好的光学特性、电特性而且耐光性优异的、含有银纳米线的透明导电基板和其制造方法。为此提供了一种透明导电基板，其特征在于，具有：基材，在所述基材的至少一个主面上形成的、含有粘合剂树脂和导电性纤维而构成的透明导电膜，和形成在所述透明导电膜上的保护膜，所述粘合剂树脂的热分解开始温度是210℃以上、并且所述保护膜是热固性树脂的热固化膜。

技术领域

本发明涉及透明导电基板和其制造方法。

背景技术

透明导电膜被用于液晶显示器(LCD)、等离子体显示器面板(PDP)、有机电致发光型显示器、太阳能电池(PV)和触摸面板(TP)的透明电极、防静电(ESD)膜以及电磁波屏蔽(EMI)膜等各种领域。作为这些透明导电膜过去一直使用ITO(氧化铟锡)，但存在铟的供给稳定性低、制造成本高、柔软性差、和成膜时需要高温等问题。因此，积极对透明导电膜进行探索以代替ITO。在这些中，含有金属纳米线的透明导电膜，由于导电性、光学特性和柔软性优异，能够通过湿法工艺成膜，制造成本低，成膜时不需要高温等因素，而作为代替ITO的透明导电膜是合适的。已知例如包含银纳米线、具有高导电性、光学特性、柔软性的透明导电膜(参照专利文献1)。

近年来在智能手机、汽车导航系统、自动售货机等中也采用触摸面板，还被广泛用于户外用途。与室内使用不同，由于长时间暴露于太阳光下，除了要求耐温度和耐湿度，还要求对光的耐久性。

例如、专利文献2中公开了在金属纤维上设置含有金属添加剂的树脂层，从而改善耐光性。在作为金属添加剂使用金属粒子的情况，由于粒子使光发生散射，所以有可视认性降低的风险。虽然对于耐光性试验前后的电阻变化有记载，但对于耐光性试验后的光学特性没有任何记载。

此外、专利文献3中公开了通过调节含有金属纳米线作为导电性纤维的导电膜中的卤素元素的含量使其降低，来提高耐光性·耐迁移性。经过本发明人的研究，尽管卤素含量在专利文献3中记载的范围，但得到了耐光性恶化的结果。此外、仅是测定了构图部位中非导电部的表面电阻，没有记载迁移评价结果。

含有银纳米线的透明导电膜，由于单位质量银的表面积大、容易与各种化合物反应，所以存在缺乏耐环境性的问题，通过工序中使用的各种药剂、清洗液的影响、以及长期保管中被暴露在空气中时氧气和水分的影响等，纳米结构体容易被腐蚀，导电性降低。此外、尤其是在电子材料等用途中，为了防止在基板的表面上附着或混入微粒状的杂质、灰尘等，很多情况使用刷子等进行物理性清洗工序，通过该工序也存在表面受损的问题。

为了解决这个问题进行了很多尝试，通过在含有银纳米线的透明导电膜的表面上层叠保护膜，尝试对该透明导电膜赋予硬度和耐环境性。此外、由于需要使电子电路的配线与透明导电膜电连接，所以需要能够保持从保护膜表面向透明导电膜的电接触性的保护膜。

为了解决这个问题，对透明导电膜的保护层进行了各种研究。例如专利文献4中提出了使用特定的热固性组合物保护透明导电膜的方法，通过将保护层薄薄地层叠，来保持电接触性。此外、作为形成保护膜的方法，例示出了通过旋转涂布法制作的方法形成了100nm左右的薄膜。但是、这仅是关于保护层的性能，还没有研究关注到导电层和保护层组合所带来的可靠性。

此外、专利文献5中致力于通过将含有防腐蚀剂的保护膜组合物在150℃的高温下制膜。来提高耐环境性。在保护膜的制膜时被置于150℃的高温，所以根据使用的基材不同，有发生变形、光学特性降低等问题的风险。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特表2010-507199号公报

专利文献2:国际公开第2015/056445号文本

专利文献3:日本特开2012-230881号公报

专利文献4:日本特开2013-170210号公报