[发明专利]电机组件、光刻设备和器件制造方法有效
申请号: | 201780065108.0 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN109844650B | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | P·J·H·杜杰森;A·F·J·德格罗特 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H02K41/03;H02K16/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;崔卿虎 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电机 组件 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
描述了用于在驱动方向上驱动物体的电机组件,该电机组件包括:多个线性电机,每个电机被配置为在驱动方向上生成驱动力,每个线性电机包括第一电磁组件和被配置为与第一电磁组件协作的第二电磁组件,用于生成驱动力;其中第一电磁组件和第二磁性组件彼此面对并且在垂直于驱动方向的方向上在彼此之间限定间隙;第一接口,用于将第一电磁组件连接至公共构件;第二接口,用于将第二电磁组件连接至将被驱动的物体;其中第一电磁组件和第二电磁组件在垂直于驱动方向的方向上堆叠,并且其中第一接口和第二接口中的至少一个被配置为能够实现相应的第一电磁组件和第二电磁组件之间的在垂直于驱动方向的方向上的相对位移。
本申请要求2016年10月21日提交的欧洲申请16195045.6的优先权,其通过引用将其全部并入本文。
技术领域
本发明涉及电机组件、光刻设备和用于制造器件的方法。
背景技术
光刻设备是将期望图案施加在衬底上、通常施加在衬底的目标部分上的机器。例如,光刻设备可以用于制造集成电路(IC)。在这种情况下,可以使用图案化装置(可替代地称为掩模或掩模版)来生成将在IC的各层上形成的电路图案。该图案可转移到衬底(例如,硅晶圆)上的目标部分(例如,包括管芯的一部分、一个管芯或多个管芯)。图案的转移通常经由衬底上设置的辐射敏感材料层(光刻胶)上的成像来进行。通常,单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知光刻设备包括:所谓的步进机,其中每个目标部分通过一次将整个图案暴露在目标部分上而被照射;以及所谓的扫描机,其中每个目标部分通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案、同时同步地与该方向平行或反平行地扫描衬底而被照射。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案化装置转移到衬底。为了精确地定位图案化装置相对于衬底的位置,图案化装置和衬底被安装在载物台上,通过定位设备(例如,包括平面或线性电磁电机)来位移载物台。为了满足产量预期,通常期望这种电机具有大的力密度。目前可用的电磁电机仍然具有低于预期的力密度。
发明内容
期望提供与已知电磁电机相比具有改进的力密度的电机组件。
根据本发明的一个方面,提供了一种用于在驱动方向上驱动物体的电机组件,该电机组件包括:
-多个线性电机,每个电机被配置为在驱动方向上生成驱动力,每个线性电机包括:
第一电磁组件和被配置为与第一电磁组件协作的第二电磁组件,用于生成驱动力;其中第一电磁组件和第二磁组件彼此面对,并且在垂直于驱动方向的方向上在彼此之间限定间隙;
-第一接口,用于将第一电磁组件连接至公共构件;
-第二接口,用于将第二电磁组件连接至将被驱动的物体;
其中第一电磁组件和第二电磁组件在垂直于驱动方向的方向上堆叠,并且第一接口和第二接口中的至少一个被配置为能够实现相应的第一电磁组件和第二电磁组件之间的在垂直于驱动方向上的方向上的相对位移。
根据本发明的又一方面,提供了一种用于在驱动方向上驱动物体的电机组件,该电机组件包括:
-第一电磁组件和第二电磁组件,其中第二电磁组件包括被配置为与第一电磁组件协作以用于在驱动方向上生成第一驱动力的第一电磁子组件、以及被配置为与第一电磁组件协作以用于在驱动方向上生成第二驱动力的第二电磁子组件;其中第一电磁子组件面向第一电磁组件的第一表面,从而限定第一电磁组件和第二电磁组件之间的在垂直于驱动方向的方向上的第一间隙;其中第二电磁子组件面向第一电磁组件的第二表面,从而限定第一电磁组件和第二电磁组件之间的在垂直于驱动方向的方向上的第二间隙;
-第一接口,用于将第一电磁组件连接至公共构件或将被驱动的物体中的一个;
-第二接口,用于将第二电磁组件连接至公共构件或将被驱动的物体中的另一个;
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