[发明专利]保护膜形成用组合物

说明书

本发明的课题是提供针对过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。解决手段是一种针对过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物，其包含：下述式(1a)所示的化合物、式(1b)所示的化合物、具有下述式(2)所示的取代基的分子量为300以上且小于800的化合物、或具有下述式(2)所示的取代基的重均分子量为300以上且小于800的化合物；以及溶剂，相对于除去该溶剂后的固体成分，含有上述式(1a)或式(1b)所示的化合物0.1质量％～60质量％，或含有具有上述式(2)所示的取代基的化合物10质量％～100质量％。(式中，R₁表示碳原子数1～4的亚烷基或亚烯基、或直接结合，k表示0或1，m表示1～3的整数，n表示2～4的整数。)

技术领域

本发明涉及在光刻工艺中，用于形成对过氧化氢水溶液的耐性优异的保护膜的组合物。进一步涉及应用上述保护膜来形成图案的方法。

背景技术

已知在基板与其上形成的抗蚀剂膜之间设置抗蚀剂下层膜、形成所希望的形状的抗蚀剂图案的光刻工艺。然而，以往的抗蚀剂下层膜例如专利文献1所记载的、由包含氨基塑料系交联剂的组合物形成的抗蚀剂下层膜针对过氧化氢水溶液的耐性差。因此，不能将这样的抗蚀剂下层膜用作使用了过氧化氢水溶液的湿蚀刻工艺中的掩模。

下述专利文献2中记载了包含具有被保护了的羧基的化合物、具有能够与羧基反应的基团的化合物、和溶剂的光刻用下层膜形成用组合物，或包含具有能够与羧基反应的基团和被保护了的羧基的化合物、和溶剂的光刻用下层膜形成用组合物，该组合物不含氨基塑料系交联剂作为必需成分。然而，专利文献2中，关于由该组合物形成的抗蚀剂下层膜对过氧化氢水溶液的耐性，没有任何记载和暗示。

下述专利文献3中记载了使用了具有对碱性过氧化氢水溶液的耐性的抗蚀剂下层膜的图案形成方法。而且，用于形成该抗蚀剂下层膜的组合物包含重均分子量1000～100,000的、具有环氧基的聚合物、和溶剂。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4145972号公报

专利文献2：国际公开第2005/013601号

专利文献3：国际公开第2015/030060号

发明内容

发明所要解决的课题

近年来，对于与以往相比进一步提高了对过氧化氢水溶液的耐性的保护膜的要求日益增强。本发明的目的是提供用于形成具有对过氧化氢水溶液的耐性的保护膜的新的组合物、以及使用了该保护膜的图案形成方法。

用于解决课题的方法

本发明的发明人通过应用包含具有2个以上酚性羟基的化合物作为添加剂即副成分、或包含具有2个以上酚性羟基的化合物作为除去溶剂后的固体成分中的主成分的组合物，能够解决上述课题。本发明的第一方案是一种针对过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物，其包含：下述式(1a)所示的化合物、式(1b)所示的化合物、具有下述式(2)所示的取代基的分子量为300以上且小于800的化合物、或具有下述式(2)所示的取代基的重均分子量为300以上且小于800的化合物；以及溶剂，相对于除去该溶剂后的固体成分，含有上述式(1a)或式(1b)所示的化合物0.1质量％～60质量％，或含有具有上述式(2)所示的取代基的化合物10质量％～100质量％。

(式中，R₁表示碳原子数1～4的亚烷基或亚烯基、或直接结合，k表示0或1，m表示1～3的整数，n表示2～4的整数。)

本发明的保护膜形成用组合物可以还包含1分子中具有环氧基、氧杂环丁烷基、环氧环己基和环氧环戊基中的至少2个基团的化合物。该化合物作为交联剂被添加。