[发明专利]膜有效
申请号: | 201780055851.8 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN109689746B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 硲武史;小松信之;横谷幸治;立道麻有子;樋口达也;古贺景子 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;H01B3/44;H01G4/18;H01L41/193 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 孟伟青;庞东成 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 膜 | ||
1.一种膜,其特征在于,
所述膜经进行双轴拉伸形成,
频率1kHz、30℃下的相对介电常数为9以上,
30℃下的体积电阻率为5E+15Ω·cm以上,
绝缘击穿强度为500V/μm以上。
2.如权利要求1所述的膜,其中,该膜的结晶度为60%以上。
3.如权利要求1或2所述的膜,其中,该膜在X射线衍射中的结晶峰的半峰宽为0.5~1.5。
4.如权利要求1或2所述的膜,其中,该膜包含聚合物。
5.如权利要求4所述的膜,其中,该膜包含熔点为180℃以上的含氟聚合物。
6.如权利要求4所述的膜,其中,该膜包含含有偏二氟乙烯单元的含氟聚合物。
7.如权利要求1或2所述的膜,其中,该膜的厚度为1μm~100μm。
8.如权利要求1或2所述的膜,其中,该膜为高介电性膜或压电膜。
9.如权利要求1或2所述的膜,其中,该膜用于膜电容器、电润湿器件、或压电面板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大金工业株式会社,未经大金工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780055851.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。