[发明专利]具有侧光罩遏制的光罩舱

说明书

一种光罩舱，其包含外舱、内舱盖和内底座板。光罩支撑在所述底座上，且包含在由所述内舱盖和所述内舱底座产生的环境内。所述内舱盖可包含多个光罩保持器，其经配置以接触所述光罩的侧壁，并限制所述光罩在水平方向上的移动。

优先权

本申请案主张2016年8月27日申请的标题为“具有侧光罩遏制的光罩舱(RETICLEPOD HAVING SIDE CONTAINMENT OF RETICLE)”的第62/380,377号美国临时申请案、 2016年10月7日申请的标题为“具有侧光罩遏制的光罩舱(RETICLE POD HAVING SIDECONTAINMENT OF RETICLE)”的第62/405,518号美国临时申请案以及2016年11月15日申请的标题为“具有侧光罩遏制的光罩舱(RETICLE POD HAVING SIDE CONTAINMENT OFRETICLE)”的第62/422,229号美国临时申请案的权益，这些申请案中的每一者以全文引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明大体上涉及用于储存、运输、装运和/或处理例如光掩模、光罩和晶片等易碎装 置的容器。更明确地说，本发明涉及一种用于光罩的双遏制舱，其具有并入有光罩保持器的内舱，所述光罩保持器限制或抑制水平方向上的移动，以试图最小化所述舱内的颗粒产生。

背景技术

集成电路和其它半导体装置的制造过程中通常碰到得过程步骤中的一者是光刻。大体上，光刻涉及使用经图案化的模板来使特殊准备的晶片表面选择性地暴露于辐射源，以产生经蚀刻的表面层。通常，经图案化的模板是光罩，其为非常平坦的玻璃板，含有将在所述晶片上再现的图案。举例来说，可通过首先在晶片表面上沉积氮化硅，接着沉积光敏液体聚合物或光致抗蚀剂的涂层来准备所述晶片表面。接下来，紫外线(UV)光照射穿过掩模或光罩的表面或反射回来，以将所要的图案投影到光致抗蚀剂覆盖的晶片上。光致抗蚀剂的暴露于所述光的部分经化学改性，且在晶片随后经受化学介质时保持不受影响，所述化学介质去除未暴露的光致抗蚀剂，从而将经改性的光致抗蚀剂以掩模上的图案的确切形状留在晶片上。所述晶片接着经受蚀刻工艺，其去除氮化物层的暴露部分，从而将氮化物图案以所述掩模的确切设计留在晶片上。此经蚀刻的层，单独或结合其它类似产生的层，表示表征特定集成电路或半导体芯片的“电路”的装 置以及装 置之间的互连件。

对于EUV，来自经图案化的表面的反射与通过深紫外光光刻的光罩特性的发射相反使用。因此，EUV光刻中所使用的反射性光掩模(光罩)比用于常规光刻中的光罩易受污染和损害影响的程度要大得多。鉴于光罩的易损坏特征对归因于滑动摩擦和/或磨损的损害的易感性，在制造、处理、装运、处置、运输或储存期间，光罩与其它表面之间的不必要且非既定的接触是不希望的。

发明内容

本发明大体上涉及用于储存、运输、装运和/或处理例如光掩模、光罩和晶片等易碎装 置的容器，且更明确地说，涉及一种具有内舱的双遏制光罩舱，所述内舱并入有光罩保持器，其限制或抑制X和Y方向上的移动，以试图最小化所述舱内的颗粒产生。如本文所述，光罩保持器经配置以接触容纳在内舱内的光罩的侧壁，且在一些情况下，最小化在Z方向上施加到光罩的顶部表面的负载的量。

在一些实施例中，用于保持光罩的光罩舱包含：底座，其经配置以在其上支撑光罩；盖，其具有顶部表面，且经配置以与所述底座配合；以及一或多个光罩保持器，其各自包含光罩接触部件，所述光罩接触部件经配置以接触光罩的侧壁来限制光罩的移动。每一光罩接触部件包含向外延伸的臂以及向下延伸的支腿，其延伸穿过所述盖，其中在所述臂致动后，所述向下延伸的支腿即刻经配置以在朝光罩的侧壁的方向上移动。在一个实施例中，光罩舱可包含在外舱内，所述外舱具有外舱底座以及经配置以与所述外舱底座配合的外舱盖。所述外舱盖包含内表面以及从所述内表面延伸的至少一个接触垫，使得当光罩舱包含在外舱内时，所述接触垫接触并致动光罩舱的向外延伸的臂，从而致使向下延伸的支腿在朝所述光罩的侧壁的方向上移动。