[发明专利]玻璃基板的研磨方法、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法、研磨液和氧化铈的还原方法

说明书

本发明提供一种玻璃基板的研磨方法，其在以氧化铈为研磨磨粒的玻璃基板的研磨处理中能够长时间维持比以往高的研磨速度。本发明中，将包含氧化铈作为研磨磨粒的研磨液供给到玻璃基板的研磨面而对玻璃基板进行研磨处理。该研磨液包含上述氧化铈作为研磨磨粒，进而包含接收光而将氧化铈还原的物质。并且，在研磨处理时进行对研磨液照射光的处理。

技术领域

本发明涉及玻璃基板的研磨方法、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法、研磨液和氧化铈的还原方法。

背景技术

作为搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的信息记录介质的一种，有磁盘。磁盘是在基板上形成磁性膜等薄膜而构成的，作为该基板，使用了铝合金基板、玻璃基板。最近，对应于高记录密度化的要求，与铝合金基板相比，可使磁头与磁盘之间的间隔更窄的玻璃基板所占的比例逐渐升高。另外，为了能够使磁头的悬浮高度尽量下降，对磁盘用基板的表面高精度地进行研磨，从而实现了高记录密度化。近年来，对HDD的进一步大记录容量化的要求日益提高，为了实现该要求，磁盘用基板也需要进一步的高品质化，要求基板表面更平滑且更洁净。

如上所述，为了高记录密度化所需的低飞行高度(悬浮量)化，磁盘表面的高平滑性必不可少。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果要求高平滑性的基板表面，因此需要高精度地对玻璃基板表面进行研磨。

作为现有的方法，关于研磨，例如在专利文献1中公开了一种发明，在利用含有氧化铝等磨粒、选自水溶性无机铝盐、镍盐中的无机盐、水溶性螯合剂的研磨剂浆料对铝等磁盘用基板进行研磨时，预先将与上述螯合剂反应而生成的难溶性的螯合盐去除之后再进行使用，从而减少刮痕。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-63806号公报

发明内容

发明所要解决的课题

以往，例如磁盘用的玻璃基板的主表面的研磨处理通过两个以上的阶段进行，通常最初的第1研磨处理使用氧化铈作为研磨磨粒来进行，但根据本发明人的研究可知，在该使用了氧化铈磨粒的研磨处理中，研磨速度低、且连续研磨处理时的研磨速度大幅降低，该情况在实现进一步提高表面品质的基板的大量生产方面成为障碍。在玻璃基板的研磨处理中，通常在两个以上的阶段的研磨处理中最初的第1研磨处理的加工余量最多，因此研磨速度特别重要，而且在进行连续研磨处理的方面要求高研磨速度的长期持续性。

本发明是为了解决这样的现有课题而进行的，其目的在于提供一种玻璃基板的研磨方法，其在以氧化铈为研磨磨粒的玻璃基板的研磨处理中能够实现比以往高的研磨速度，并且能够长时间维持这种高研磨速度。另外，其目的还在于提供一种玻璃基板的制造方法，其能够应用这种玻璃基板的研磨方法得到高品质的玻璃基板。其目的还在于提供一种特别适合于磁盘用玻璃基板的制造的研磨方法。此外，其目的还在于提供一种磁盘的制造方法，其使用了通过上述玻璃基板的制造方法得到的磁盘用玻璃基板。另外，其目的还在于提供一种适合于本发明的玻璃基板的研磨方法的研磨液。

另外，其目的还在于提供一种氧化铈的还原方法，其能够高效地还原作为研磨磨粒包含在研磨液中的氧化铈。此外，其目的还在于提供一种玻璃基板的研磨方法，其使用包含利用这种氧化铈的还原方法还原的氧化铈的研磨液，由此能够实现比以往高的研磨速度，并且能够长时间维持这种高研磨速度。

用于解决课题的手段

因此，本发明人对用于解决上述现有课题的手段进行摸索，结果发现，在以氧化铈为研磨磨粒的研磨处理中所用的研磨液中，通过包含接收光而将氧化铈还原的物质，研磨速度提高，可得到比以往高的研磨速度。另外，还发现能够长时间维持这种高研磨速度。

另外还发现：该情况下，通过使在表面具有接收光而将氧化铈还原的物质的氧化铈作为研磨磨粒，可利用上述将氧化铈还原的物质有效地产生氧化铈的还原作用，研磨速度的提高效果升高。