[发明专利]玻璃基板的研磨方法、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法、研磨液和氧化铈的还原方法

权利要求书

1.一种玻璃基板的研磨方法，其为利用包含氧化铈作为研磨磨粒的研磨液对玻璃基板进行研磨处理的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，

所述研磨液包含接收光而将氧化铈还原的物质，

在所述研磨处理时包括对所述研磨液照射光的处理。

2.如权利要求1所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述接收光而将氧化铈还原的物质的带隙大于所述氧化铈的带隙。

3.如权利要求1所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述接收光而将氧化铈还原的物质包含氧化镓、氧化钽、钽酸盐、氧化铌、铌酸盐中的至少一种。

4.如权利要求2所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述接收光而将氧化铈还原的物质包含氧化镓、氧化钽、钽酸盐、氧化铌、铌酸盐中的至少一种。

5.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述接收光而将氧化铈还原的物质的导带的下端的能级高于所述氧化铈的导带的下端的能级。

6.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述研磨液为碱性。

7.如权利要求5所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述研磨液为碱性。

8.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，在所述研磨处理中使所述研磨液循环使用。

9.如权利要求5所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，在所述研磨处理中使所述研磨液循环使用。

10.如权利要求6所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，在所述研磨处理中使所述研磨液循环使用。

11.如权利要求7所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，在所述研磨处理中使所述研磨液循环使用。

12.一种玻璃基板的制造方法，其特征在于，该制造方法包括：应用权利要求1～11中任一项所述的玻璃基板的研磨方法对玻璃基板的表面进行研磨的处理。

13.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，应用权利要求12所述的玻璃基板的制造方法来制造磁盘用玻璃基板。

14.一种磁盘的制造方法，其包括：

应用权利要求1～11中任一项所述的玻璃基板的研磨方法对玻璃基板的表面进行研磨的处理；和

至少形成磁性膜的处理。

15.一种研磨液，其为用于对玻璃基板进行研磨处理的研磨液，其特征在于，

所述研磨液包含氧化铈作为研磨磨粒，同时包含接收光而将氧化铈还原的物质。

16.一种玻璃基板的研磨方法，其为利用包含研磨磨粒的研磨液对玻璃基板进行研磨处理的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，

所述研磨磨粒包含氧化铈，该氧化铈在表面具有接收光而将氧化铈还原的物质，

在所述研磨处理时包括对所述研磨液照射光的处理。

17.如权利要求16所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述接收光而将氧化铈还原的物质的带隙大于所述氧化铈的带隙。

18.如权利要求16所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述接收光而将氧化铈还原的物质包含氧化镓、氧化钽、钽酸盐、氧化铌、铌酸盐中的至少一种。

19.如权利要求17所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述接收光而将氧化铈还原的物质包含氧化镓、氧化钽、钽酸盐、氧化铌、铌酸盐中的至少一种。