[发明专利]多孔质聚酰亚胺膜的制造方法及由该方法制造的多孔质聚酰亚胺膜有效
申请号: | 201780045792.6 | 申请日: | 2017-07-25 |
公开(公告)号: | CN109563300B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 大矢修生;松尾信;藤井有一;番场启太 | 申请(专利权)人: | 宇部兴产株式会社 |
主分类号: | C08J9/28 | 分类号: | C08J9/28;C08G73/10 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔 聚酰亚胺 制造 方法 | ||
1.多孔质聚酰亚胺膜的制造方法,其中,上述多孔质聚酰亚胺膜是如下所述的多孔质聚酰亚胺膜:
其是具有2个表面层(a)和(b)、以及夹在该表面层(a)和(b)之间的大孔层的三层结构的多孔质聚酰亚胺膜,
上述大孔层具有与上述表面层(a)和(b)结合的隔壁、以及被该隔壁及上述表面层(a)和(b)包围的膜平面方向的平均孔径为10~500μm的多个大孔,
上述大孔层的隔壁的厚度为0.1~50μm,其中,至少1个隔壁具有连通相邻的大孔彼此的1个或多个孔,
上述表面层(a)和(b)的厚度分别为0.1~50μm,至少一方的表面层具有平均孔径大于5μm且为200μm以下的多个细孔,另一方的表面层具有平均孔径为0.01~200μm的多个细孔,至少一方的表面层的表面开口率为10%以上,另一方的表面层的表面开口率为5%以上,
上述表面层(a)和(b)中的细孔与上述大孔连通,
总膜厚为5~500μm,葛尔莱透气度为20秒/100cc以下,空孔率为60~95%,
上述多孔质聚酰亚胺膜的制造方法包括以下工序:
(1)将包含由四羧酸单元和二胺单元形成的极限粘度数为1.0~3.0的聚酰胺酸3~60质量%和有机极性溶剂40~97质量%的聚酰胺酸溶液流延成膜状,浸渍或接触在以水为必须成分的凝固溶剂中,制作聚酰胺酸的多孔质膜的工序,和
(2)对上述工序得到的聚酰胺酸的多孔质膜进行热处理而酰亚胺化的工序,其中,将热处理后的膜的纵向和横向的收缩率分别控制在8%以下,且在上述热处理中,在200℃以上的温度区域的升温速度为25℃/分钟以上。
2.权利要求1所述的多孔质聚酰亚胺膜的制造方法,其中,上述聚酰胺酸由选自联苯四羧酸二酐和均苯四甲酸二酐中的至少1种四羧酸二酐和选自苯二胺、二氨基二苯基醚和双(氨基苯氧基)苯中的至少1种二胺获得。
3.权利要求1或2所述的多孔质聚酰亚胺膜的制造方法,其中,上述的以水为必须成分的凝固溶剂为水,或者是5质量%以上且低于100质量%的水和大于0质量%且为95质量%以下的有机极性溶剂的混合液。
4.权利要求1或2所述的多孔质聚酰亚胺膜的制造方法,其还包括对上述工序(2)得到的多孔质聚酰亚胺膜的至少单面实施等离子体处理的工序。
5.权利要求3所述的多孔质聚酰亚胺膜的制造方法,其还包括对上述工序(2)得到的多孔质聚酰亚胺膜的至少单面实施等离子体处理的工序。
6.多孔质聚酰亚胺膜的制造方法,其中,上述多孔质聚酰亚胺膜是如下所述的多孔质聚酰亚胺膜:
其是具有2个表面层(a)和(b)、以及夹在该表面层(a)和(b)之间的大孔层的三层结构的多孔质聚酰亚胺膜,
上述大孔层具有与上述表面层(a)和(b)结合的隔壁、以及被该隔壁及上述表面层(a)和(b)包围的膜平面方向的平均孔径为10~500μm的多个大孔,
上述大孔层的隔壁的厚度为0.1~50μm,其中,至少1个隔壁具有连通相邻的大孔彼此的1个或多个孔,
上述表面层(a)和(b)的厚度分别为0.1~50μm,至少一方的表面层具有平均孔径大于5μm且为200μm以下的多个细孔,另一方的表面层具有平均孔径为0.01~200μm的多个细孔,至少一方的表面层的表面开口率为10%以上,另一方的表面层的表面开口率为5%以上,
上述表面层(a)和(b)中的细孔与上述大孔连通,
总膜厚为5~500μm,葛尔莱透气度为20秒/100cc以下,空孔率为60~95%,
上述多孔质聚酰亚胺膜的制造方法包括以下工序:
(1)将包含由四羧酸单元和二胺单元形成的极限粘度数为1.0~3.0的聚酰胺酸3~60质量%和有机极性溶剂40~97质量%的聚酰胺酸溶液流延成膜状,浸渍或接触在以水为必须成分的凝固溶剂中,制作聚酰胺酸的多孔质膜的工序,
(2)对上述工序得到的聚酰胺酸的多孔质膜进行热处理而酰亚胺化的工序,和
(3)对上述工序(2)得到的多孔质聚酰亚胺膜的至少单面实施等离子体处理的工序。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇部兴产株式会社,未经宇部兴产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780045792.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。