[发明专利]用于掩蔽基板的掩模布置、用于处理基板的设备及其方法

说明书

描述一种用于在处理腔室中进行沉积期间掩蔽基板的掩模布置(100)。所述掩模布置(100)包括：掩模框架(110)，用于保持掩模(115)；和掩模载体(120)，用于保持所述掩模框架(110)，其中所述掩模框架(110)由顺应性支撑件(130)连接到所述掩模载体(120)。

技术领域

本公开内容涉及对基板、特别地是薄平基板的处理。特别地，本文所述的实施方式涉及用于在沉积期间掩蔽基板的掩模布置、用于通过掩模在基板上沉积材料的沉积设备、以及用于保持掩模的方法。更特别地，本公开内容的实施方式涉及在光电器件(例如有机发光二极管(OLED))的生产中使用的掩模布置、沉积设备和方法。

背景技术

已知用于在基板上沉积材料的数种方法。作为示例，可以通过使用蒸发工艺(诸如物理气相沉积(PVD)工艺、化学气相沉积(CVD)工艺)、溅射工艺、喷涂工艺等来涂覆基板。可以在待涂覆的基板所在的沉积设备的处理腔室中执行工艺。在处理腔室中提供沉积材料。多种材料(诸如小分子、金属、氧化物、氮化物和碳化物)可以用于沉积在基板上。此外，可以在处理腔室中进行其它工艺，像蚀刻、结构化、退火或类似工艺。

可以在数个应用和数个技术领域中使用被涂覆的基板。例如，应用在有机发光二极管(OLED)面板领域中。另外应用包括绝缘面板、微电子器件(诸如半导体器件)、具有TFT的基板、滤色器或类似应用。

OLED是由(有机)分子薄膜组成的固态器件，其通过施加电力来产生光。OLED可以在电子装置上提供明亮显示并比例如发光二极管(LED)或液晶显示器(LCD)使用更少的功率。在处理腔室中，产生(例如，蒸发、溅射或喷射等)有机分子并使其在基板上凝结成薄膜。颗粒通过具有特定图案的掩模，以在基板上形成OLED图案。

为了减少沉积设备的占地面积，存在允许在竖直取向上处理被掩蔽的基板的沉积设备。换句话说，基板和掩模布置竖直地布置在处理腔室内。当掩模布置竖直地取向时，重力可能引起掩模布置的变形或弯曲，从而造成处理过的基板、特别是沉积的膜或层的质量降低。此外，在掩模布置组装期间、在掩模对准期间以及在材料沉积期间，避免掩模的变形是关键的，以便产生高质量OLED。

因此，对改进的掩模布置、改进的掩模技术和用于生产诸如OLED的光电器件的改进的设备存在持续的需求。

发明内容

鉴于以上所述，提供了一种用于掩蔽基板的掩模布置、一种用于处理基板的设备、以及一种用于在掩模载体内对掩模框架提供支撑的方法。本公开内容的另外方面、益处和特征从权利要求书、说明书和附图而显而易见。

根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在处理腔室中进行沉积期间掩蔽基板的掩模布置。所述掩模布置包括用于保持掩模的掩模框架。此外，所述掩模布置包括用于保持所述掩模框架的掩模载体，其中所述掩模框架由顺应性(compliant)支撑件连接到所述掩模载体。

根据本公开内容的另一个方面，提供了一种用于在处理腔室中进行沉积期间掩蔽基板的掩模布置，其中所述掩模布置包括：掩模框架，用于保持掩模；和掩模载体，用于保持所述掩模框架。所述掩模框架经由第一机械结构及经由第二机械结构而连接到所述掩模载体。所述第一机械结构被配置为用于在第一方向和第二方向上支撑所述掩模框架。所述第二机械结构被配置为用于在所述第一方向上提供自由度。

根据本公开内容的另一个方面，提供了一种用于在处理腔室中进行沉积期间掩蔽基板的掩模布置。所述掩模布置包括：掩模框架，用于保持掩模；和掩模载体，用于保持所述掩模框架。所述掩模框架经由第一机械结构及经由第二机械结构而连接到所述掩模载体。所述第一机械结构被配置为用于在第一方向和第二方向上固定所述掩模框架的固定支撑件。所述第二机械结构被配置为用于在所述第一方向上提供自由度并用于固定所述第二方向。