[发明专利]用于掩蔽基板的掩模布置、用于处理基板的设备及其方法有效

申请号：	201780041675.2	申请日：	2017-09-27
公开（公告）号：	CN109844164B	公开（公告）日：	2021-05-25
发明（设计）人：	马蒂亚斯·赫曼尼斯;托马索·维尔切斯	申请（专利权）人：	应用材料公司
主分类号：	C23C14/04	分类号：	C23C14/04
代理公司：	北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006	代理人：	徐金国;赵静
地址：	美国加利***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	用于掩蔽布置处理设备及其方法
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【权利要求书】：

1.一种用于在处理腔室中进行沉积期间掩蔽基板的掩模布置(100)，所述掩模布置包括：

-掩模框架(110)，用于保持掩模(115)，和

-掩模载体(120)，用于保持所述掩模框架(110)，

其中所述掩模框架(110)由顺应性支撑件(130)连接到所述掩模载体(120)，所述顺应性支撑件(130)包括在所述掩模框架(110)的第一侧(110A)处的第一顺应性支撑件(131)和在所述掩模框架(110)的与所述掩模框架(110)的所述第一侧(110A)相对的第二侧(110B)处的第二顺应性支撑件(132)，

其中所述第一顺应性支撑件(131)被配置为用于在第一方向(101)和第二方向(102)上支撑所述掩模框架(110)，并且其中所述第二顺应性支撑件(132)被配置为用于在所述第二方向上支撑所述掩模框架(110)并在所述第一方向(101)上提供自由度，其中所述第二方向(102)垂直于所述第一方向(101)。

2.根据权利要求1所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件被配置为使得所述掩模框架与所述掩模载体机械地分离。

3.根据权利要求2所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件被配置为使得掩模载体变形与所述掩模框架分离。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件(130)被配置为在第三方向(103)上提供顺应性支撑。

5.根据权利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件包括在所述第三方向上提供弹性的弹性基础。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的掩模布置(100)，其中所述掩模载体(120)至少部分地布置在所述掩模框架(110)周围。

7.根据权利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述掩模载体(120)至少部分地布置在所述掩模框架(110)周围。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件(130)整合到所述掩模载体(120)中，或其中所述顺应性支撑件(130)整合到所述掩模框架(110)中。

9.根据权利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件(130)整合到所述掩模载体(120)中，或其中所述顺应性支撑件(130)整合到所述掩模框架(110)中。

10.根据权利要求6所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件(130)整合到所述掩模载体(120)中，或其中所述顺应性支撑件(130)整合到所述掩模框架(110)中。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件(130)由通过放电加工制造的机械结构提供。

12.根据权利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件(130)由通过放电加工制造的机械结构提供。

13.根据权利要求6所述的掩模布置(100)，其中所述顺应性支撑件(130)由通过放电加工制造的机械结构提供。