[发明专利]半导体膜及其制造方法、光电转换元件、固态成像元件和电子装置有效
申请号: | 201780040600.2 | 申请日: | 2017-06-06 |
公开(公告)号: | CN109417079B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | 泷泽修一;塩见治典 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;B82Y40/00;H01L31/10;H04N25/70;H04N25/79 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 王新春;曹正建 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 及其 制造 方法 光电 转换 元件 固态 成像 电子 装置 | ||
1.一种半导体膜,包含:
半导体纳米粒子和由以下通式(1)表示的化合物:
在所述通式(1)中,X表示-COOH、-NH2、-PO(OH)2或-SO2(OH),A1表示-S、-COO、-PO(OH)O或-SO2(O),并且n是1~3的整数,B1表示Li、Na或K,
其中由所述通式(1)表示的化合物与所述半导体纳米粒子配位。
2.根据权利要求1所述的半导体膜,
其中所述半导体纳米粒子选择性地吸收至少可见区域中的光。
3.根据权利要求1所述的半导体膜,
其中所述半导体纳米粒子选择性地吸收至少红外区域中的光。
4.一种通过用含有半导体纳米粒子和由以下通式(2)表示的化合物的分散液涂布基板而获得的半导体膜:
在所述通式(2)中,X表示-COOH、-NH2、-PO(OH)2或-SO2(OH),A1表示-S、-COO、-PO(OH)O或-SO2(O),并且n是1~3的整数,B2表示咪唑鎓化合物、吡啶鎓化合物、磷化合物、铵化合物或锍化合物,
其中由所述通式(2)表示的化合物与所述半导体纳米粒子配位。
5.根据权利要求4所述的半导体膜,
其中所述半导体纳米粒子选择性地吸收至少可见区域中的光。
6.根据权利要求4所述的半导体膜,
其中所述半导体纳米粒子选择性地吸收至少红外区域中的光。
7.一种半导体膜的制造方法,所述方法包括:
用含有半导体纳米粒子和由以下通式(2)表示的化合物的分散液涂布基板:
在所述通式(2)中,X表示-COOH、-NH2、-PO(OH)2或-SO2(OH),A1表示-S、-COO、-PO(OH)O或-SO2(O),并且n是1~3的整数,B2表示咪唑鎓化合物、吡啶鎓化合物、磷化合物、铵化合物或锍化合物,
其中由所述通式(2)表示的化合物与所述半导体纳米粒子配位。
8.根据权利要求7所述的半导体膜的制造方法,
其中所述半导体纳米粒子选择性地吸收至少可见区域中的光。
9.根据权利要求7所述的半导体膜的制造方法,
其中所述半导体纳米粒子选择性地吸收至少红外区域中的光。
10.一种光电转换元件,包括:
根据权利要求1所述的半导体膜,以及设置成彼此面对的第一电极和第二电极,
其中所述半导体膜设置在所述第一电极和所述第二电极之间。
11.一种光电转换元件,包括:
根据权利要求4所述的半导体膜,以及设置成彼此面对的第一电极和第二电极,
其中所述半导体膜设置在所述第一电极和所述第二电极之间。
12.一种固态成像元件,其中针对以一维方式或二维方式排列的多个像素中的每一个像素至少层叠有根据权利要求10所述的光电转换元件和半导体基板。
13.一种固态成像元件,其中针对以一维方式或二维方式排列的多个像素中的每一个像素至少层叠有根据权利要求11所述的光电转换元件和半导体基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的