[发明专利]涂敷处理装置、涂敷处理方法和计算机存储介质

说明书

一种能够对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其包括：用于保持基片的保持部；对保持于保持部的基片排出涂敷液的涂敷嘴；和使保持部与涂敷嘴在正交方向相对地移动的移动机构，能够以任意的角度恰当且高效地对基片涂敷涂敷液。

技术领域

(相关申请的交叉引用)

本申请基于2016年6月30日在日本申请的特愿2016-129710号，主张优先权，并在此引用其内容。

本发明涉及对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置、使用了该涂敷处理装置的涂敷处理方法和计算机存储介质。

背景技术

例如有机发光二极管(OLED：Organic Light Emitting Diode)中，为了防止外界光的反射而使用圆偏振片。圆偏振片是将线偏振片和波片(相位差片)以它们的偏振轴成45度交叉的方式层叠来制作的。另外，液晶显示器(LCD：Liquid Crystal Display)中，为了控制显示中的旋光性和双折射性，也使用上述线偏振片和波片。

另外，例如有时仅将波片以其偏振轴倾斜15度或75度的方式形成。因此，需要能够以任意的角度形成偏振片或波片。另外，为了使偏振片或波片的偏振轴以任意的角度交叉，也需要能够单独地形成这些偏振片或波片。

目前，使用例如延伸片来制作这种偏振片或波片。延伸片通过使片在一个方向延伸并紧贴，从而使该材料中的分子定向到一个方向。

然而，近年来，随着OLED和LCD的薄型化，也要求偏振片、波片的薄膜化。但是，当制作偏振片或波片时，在如现有技术中那样使用了延伸片的情况下，缩小该延伸片本身的膜厚存在极限，不能得到足够薄的膜。

因此，在基片上涂敷含有规定材料的涂敷液，形成所需膜厚的偏振片、波片，从而实现薄膜化。具体而言，例如作为规定材料的具有液晶特性的涂敷液涂敷在基片上，使该涂敷液流延、定向。液晶化合物在涂敷液中形成有超分子缔合体，当一边施加剪切应力一边使涂敷液流动时，超分子缔合体的长轴方向定向到流动方向。

为了能够向这样对基片涂敷涂敷液，现有技术中提出了各种装置。

例如专利文献1所记载的偏振膜印刷装置具有用于保持基片的载置台和用于向基片排出墨液的狭槽模头(slot die head)。载置台具有将平台嵌入挖出了平台部分的框板的结构，由此能够使平台周边部的高度成为与固定于平台的基片的表面相同的高度。狭槽模头以至少覆盖平台的方式延伸。然后，在印刷方向配置平台的状态下固定基片，接着使该平台旋转，使基片以相对于印刷方向倾斜规定的角度之后，使狭槽模头在印刷方向移动并向基片涂敷墨液。

另外，例如专利文献2所记载的涂敷装置中，向具有向上方开口并在水平方向延伸的带状隙缝的涂敷头供给涂敷液，使该涂敷液从隙缝排出形成液滴(bead)，使平面形状为矩形的被涂敷基片大致沿着其一个对角线方向在涂敷头的上方向斜上方向相对地移动，利用形成于涂敷头与被涂敷基片之间的液滴使涂敷液附着到被涂敷基片的涂敷面。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-62502号公报

专利文献2：日本特开平10-5677号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，在使用专利文献1所记载的偏振膜印刷装置的情况下，狭槽模头以至少覆盖平台的方式延伸，因此，在向基片涂敷墨液时，向固定于平台的基片排出墨液，而且也向平台周围的框板排出并附着墨液。因此，在每次基片的涂敷处理中需要逐个清洗框板，耗费时间。