[发明专利]真空蒸镀装置有效
| 申请号: | 201780039108.3 | 申请日: | 2017-07-19 |
| 公开(公告)号: | CN109415800B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
| 发明(设计)人: | 北泽僚也;中村寿充;朝比奈伸一;斋藤一也 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 真空 装置 | ||
1.一种真空蒸镀装置,具有配置在真空室内的蒸镀源,蒸镀源具有容置蒸镀物质的容置箱和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置;
其特征在于:
容置箱中设置有喷出升华或气化的蒸镀物质的蒸气的喷出部,喷出部相对于真空室内的被成膜物位于垂直方向上方;
喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口,从该喷出口向被成膜物喷出蒸镀物质的蒸气,容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
所述加热装置加热所述容置箱,并通过来自该容置箱的辐射热加热所述蒸镀物质的装置。
3.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
具有在垂直方向上往返移动自如的挡板,其靠近所述喷出口配置,并防止来自该喷出口的蒸镀物质的蒸气向被成膜物喷出,挡板在远离被成膜物的端部的方向上偏移设置。
4.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
具有在垂直方向上往返移动自如的挡板,其靠近所述喷出口配置,并防止来自该喷出口的蒸镀物质的蒸气向被成膜物喷出,挡板在远离被成膜物的端部的方向上偏移设置。
5.根据权利要求1~4中任意一项所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
具有保持被成膜物水平的保持部。
6.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
还具有驱动装置,其以垂直方向的轴为中心旋转驱动所述保持部。
7.根据权利要求1~4中任意一项所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
被成膜物是在一个方向上为长边的基板,通过移动装置使基板相对于所述蒸镀源在真空室内的一个方向上进行相对移动并成膜;
以基板相对于蒸镀源的相对移动方向为X轴方向,在所述容置箱中,喷出部以规定的间隔排列设置在X轴方向上。
8.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
被成膜物是在一个方向上为长边的基板,通过移动装置使基板相对于所述蒸镀源在真空室内的一个方向上进行相对移动并成膜;
以基板相对于蒸镀源的相对移动方向为X轴方向,在所述容置箱中,喷出部以规定的间隔排列设置在X轴方向上。
9.根据权利要求6所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
被成膜物是在一个方向上为长边的基板,通过移动装置使基板相对于所述蒸镀源在真空室内的一个方向上进行相对移动并成膜;
以基板相对于蒸镀源的相对移动方向为X轴方向,在所述容置箱中,喷出部以规定的间隔排列设置在X轴方向上。
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