[发明专利]用于在真空腔室中成像的设备、用于真空处理基板的系统、和用于使真空腔室中的至少一个对象成像的方法

说明书

本公开内容提供了一种用于在真空腔室中成像的设备。所述设备包括真空腔室，所述真空腔室具有光入口端口和一个或多个光学元件，所述一个或多个光学元件位于所述真空腔室中并且被配置用于将光从所述光入口端口引导到待成像的至少一个对象。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于在真空腔室中成像的设备、一种用于对基板进行真空处理的系统、和一种用于使真空腔室中的至少一个对象成像的方法。本公开内容的实施方式具体涉及用于在有机发光二极管(OLED)装置的制造中使用的基板和/或掩模的对准的成像。

背景技术

用于基板上的层沉积的技术包括例如热蒸发、物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。经涂覆的基板可用于若干应用和若干技术领域中。例如，经涂覆的基板可用于有机发光二极管(OLED)装置领域中。OLED可以在用于显示信息的电视屏幕、计算机监视器、移动电话、其他手持式装置和类似者的制造中使用。诸如OLED显示器之类的OLED装置可包括位于两个电极之间的一个或多个有机材料层，所述一个或多个有机材料层全部沉积在基板上。

在OLED装置的生产中，存在关于沉积蒸发材料以便实现高分辨率OLED装置的技术挑战。具体地，基板相对于掩模的精确对准对于实现高质量的处理结果是至关重要的，例如对于生产高分辨率OLED装置。此外，真空系统应该能够提供优异的真空条件，使得可以制造高质量的OLED装置。

鉴于上述情况，克服本领域中的至少一些问题的新设备、系统和方法是有益的。本公开内容具体旨在提供一种用于使基板和掩模对准的改进的成像布置。本公开内容还旨在提供一种改进的真空系统。

发明内容

鉴于上述，提供了一种用于在真空腔室中成像的设备、一种用于对基板进行真空处理的系统、和一种用于使真空腔室中的至少一个对象成像的方法。本公开内容的其他方面、益处和特征从权利要求、说明书和附图显而易见。

根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在真空腔室中成像的设备。所述设备包括真空腔室，所述真空腔室具有光入口端口和一个或多个光学元件，所述一个或多个光学元件位于所述真空腔室中并且被配置用于将光从所述光入口端口引导到待成像的至少一个对象。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于对基板进行真空处理的系统。所述系统包括：对准装置，所述对准装置被配置用于使掩模装置和基板相对于彼此对准；和根据本公开内容的用于在真空腔室中成像的设备。所述对准装置被配置用于基于至少一个成像的对象而使掩模装置和基板相对于彼此对准。

根据本公开内容的又一方面，提供了一种用于使真空腔室中的至少一个对象成像的方法。所述方法包括引导光穿过光入口端口进入真空腔室中，使用一个或多个光学元件使光发生偏转，和用经偏转的光照射至少一个对象。

实施方式还涉及用于执行所披露的方法的设备并且包括用于执行每个所描述的方法方面的各个设备部分。这些方法方面可以通过硬件部件、由适当软件编程的计算机、通过两者的任何组合或以任何其他方式来执行。此外，根据本公开内容的实施方式还涉及用于操作所描述的设备的方法。用于操作所描述的设备的方法包括用于执行所述设备的每个功能的方法方面。

附图说明

因此，以可以详细地理解本公开内容的上述特征的方式，可以通过参照实施方式对上述简要概述的本公开内容进行更具体的描述。附图涉及本公开内容的实施方式，并在下面描述：

图1示出了根据本文所描述的实施方式的用于在真空腔室中成像的设备的示意图；

图2示出了根据本文所描述的其他实施方式的用于在真空腔室中成像的设备的示意图；

图3示出了根据本文所描述的实施方式的用于对基板进行真空处理的系统的示意图；

图4A和图4B示出了根据本文所描述的实施方式的保持布置的示意图；