[发明专利]用于在真空腔室中成像的设备、用于真空处理基板的系统、和用于使真空腔室中的至少一个对象成像的方法

权利要求书

1.一种用于在真空腔室中成像的设备，所述设备包括：

真空腔室，所述真空腔室具有光入口端口；和

一个或多个光学元件，所述一个或多个光学元件位于所述真空腔室中并且被配置用于将光从所述光入口端口引导到待成像的至少一个对象，

其中所述一个或多个光学元件包括：

第一棱镜和第二棱镜；和

连接元件，所述连接元件用于将光从所述第一棱镜引导到所述第二棱镜。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述一个或多个光学元件被布置用于向待成像的所述至少一个对象提供背光。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述真空腔室进一步包括成像端口，所述成像端口用于从所述真空腔室的外部使所述至少一个对象成像。

4.根据权利要求3所述的设备，进一步包括以下项中的至少一者：

光源，所述光源位于所述光入口端口处和所述真空腔室的外部，和

成像装置，所述成像装置位于所述成像端口处和所述真空腔室的外部。

5.根据权利要求3所述的设备，其中所述真空腔室包括腔室壁，并且其中所述光入口端口和所述成像端口的至少一者设置在所述腔室壁中。

6.根据权利要求3所述的设备，其中所述光入口端口和所述成像端口的至少一者包括透明材料。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一棱镜具有第一斜边，所述第一斜边被涂覆以反射所述第一棱镜中的光，并且所述第二棱镜具有第二斜边，所述第二斜边被涂覆以反射所述第二棱镜中的光。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一棱镜被布置成面向所述光入口端口，并且所述第二棱镜被布置成面向待成像的所述至少一个对象。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述连接元件是均质化杆。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述一个或多个光学元件包括道威棱镜。

11.一种用于对基板进行真空处理的系统，所述系统包括：

对准装置，所述对准装置被配置用于使掩模装置和所述基板相对于彼此对准；和

根据权利要求1至10中任一项所述的设备，

其中所述对准装置被配置用于基于至少一个成像的对象而使所述掩模装置和所述基板相对于彼此对准。

12.一种用于通过使用根据权利要求1至10中任一项所述的设备使真空腔室中的至少一个对象成像的方法，所述方法包括：

引导光穿过光入口端口进入所述真空腔室；

使用一个或多个光学元件使所述光发生偏转；和

用经偏转的光照射至少一个对象。

13.根据权利要求12所述的方法，进一步包括：

使掩模和基板相对于彼此对准。

14.根据权利要求12或13所述的方法，其中所述光沿第一方向进入所述真空腔室并且由所述一个或多个光学元件沿与所述第一方向不同的第二方向偏转，以向待成像的所述至少一个对象提供背光。