[发明专利]涂层装置以及涂层方法

说明书

一种用于在一个或多个基板(10)上沉积层的装置，具有布置在反应器壳体(1)中的过程室(2)；可调温的进气机构(3)，用于沿通向所述基板(10)的流动方向(S)将过程气体流导入所述过程室(2)；沿流动方向(S)直接布置在至少一个进气机构(3)的排气面之后的屏蔽元件(6)，该屏蔽元件处于屏蔽位置时将至少一个进气机构(3)和所述基板(10)相互热隔离；多个沿流动方向(S)布置在屏蔽元件(6)之后的掩模支架(7、7’)，分别用于固持掩模(8、8’)；彼此实体分离的基板架(9、9’)，用于固持所述基板(10)中的至少一个，所述基板架(9、9’)分别对应于多个掩模支架(7、7’)中的一个并且沿流动方向(S)布置在所述掩模(8、8’)之后；其中，针对多个基板架(9、9’)中的每一个均设有移动机构(11、11’)，用于将所述基板架(9、9’)从相对掩模支架(7、7’)的远离位置移动至相对掩模支架(7、7’)的邻近位置，在远离位置上，所述基板架(9、9’)可装载和可卸载基板(10、10’)，在邻近位置上，布置在所述基板架(9、9’)上的基板(10、10’)能够以贴靠在掩模(8、8’)上的贴靠位置被涂层。

技术领域

本发明涉及一种用于在一个或多个基板(也称为基底或衬底)上沉积层的装置，所述装置具有布置在反应器壳体中的过程室。设有进气机构，该进气机构可调温并且过程气体被导入该进气机构。所述进气机构具有排气面，过程气体可以透过该排气面沿过程气体流动方向流入所述过程室。沿流动方向在进气机构之后设有屏蔽元件，以便在热辐射方面将进气机构与基板相互隔离。所述屏蔽元件位于进气机构的排气面与掩模支架之间。掩模支架在涂层时支承用于对待涂层的基板进行横向结构化的掩模。所述掩模在对基板涂层期间接触式贴靠该基板的表面，该基板由可调温的基板架承载。用所述装置在大致呈矩形的基板上沉积OLED层。沉积于基板上的有机材料能够以施加电压或通电流的方式以三原色发光。用以此方式制成的基板制造屏幕显示器、显示面板或类似器件。

背景技术

专利文献US 7,964,037 B2公开一种具有中央进气机构的过程室，进气机构的排气孔可用“封盖”加以封闭。设有两个相对于进气机构沿直径对置的基板架，基板架分别承载一个基板，该基板被掩模覆盖，因此打开“封盖”后，可在基板上沉积结构化的表面。

由专利文献US 2014/0322852 A1已知一种用于沉积有机层的装置，其中，构成进气机构的材料源能够横向于流动方向地相对多个分别布置在基板架上的基板移动。

专利文献WO 2010/114274 A1描述一种用于同时涂布多个基板的装置，基板布置在单独地配属于基板的基板架上。其中，所述基板各自配属有进气机构。

专利文献DE 10 2010 000 447 A1描述一种具有进气机构和基板架的过程室，基板架位于进气机构的排气面所排出的过程气体流的流动路径上。基板架可沿流动方向相对于进气机构位移。设有屏蔽元件，该屏蔽元件可被置于基板架与进气机构的排气面之间。在使用掩模的情况下将层结构化地沉积于位于基板架上的基板上。

发明内容

本发明所要解决的技术方案在于，改良用于沉积有机层的装置的过程效率。

所述技术问题通过如下技术方案解决。