[发明专利]涂层装置以及涂层方法

权利要求书

1.一种用于在一个或多个基板(10)上沉积层的装置，所述装置包括：

布置在反应器壳体(1)中的过程室(2)；

至少一个可调温的进气机构(3)，用于沿通向一个或多个基板(10)的流动方向(S)将过程气体导入所述过程室(2)，其中所述过程气体从至少一个进气机构(3)的排气面排出；

至少一个屏蔽元件(6)，所述屏蔽元件当处于屏蔽位置时沿流动方向(S)直接布置在至少一个进气机构(3)下游并且将至少一个进气机构(3)和一个或多个基板(10)相互热隔离；

沿流动方向(S)布置在至少一个屏蔽元件(6)下游的掩模支架(7、7’)，分别被构造用于固持掩模(8、8’)；

基板架(9、9’)，分别对应于掩模支架(7、7’)中的一个或多个并且沿流动方向(S)布置在所述掩模(8、8’)下游，其中，所述基板架(9、9’)彼此实体分离并且被构造用于固持所述一个或多个基板(10)中的至少一个；

针对基板架(9、9’)中的每一个的移动机构(11、11’)，被构造为将所述基板架(9、9’)从远离掩模支架(7、7’)的第一位置移动至邻近掩模支架(7、7’)的第二位置，在第一位置上，所述基板架(9、9’)可装载和可卸载一个或多个基板(10、10’)，在第二位置上，布置在所述基板架(9、9’)上的一个或多个基板(10、10’)中的至少一个能够在与一个或多个掩模(8、8’)处于接触的情况下被涂层；

其中，至少一个屏蔽元件(6)是统一的屏蔽元件，或者是多个屏蔽元件，并且能够在屏蔽位置与保存室(17)之间移动，

其中，所述保存室(17)被构造为在反应器壳体(1)的壁中的开槽，该开槽的高度小于至少一个进气机构(3)的排气面与所述掩模支架(7、7’)之间的距离，

其中，当至少一个屏蔽元件(6)位于所述屏蔽位置时，至少一个屏蔽元件(6)布置在所有掩模支架(7、7’)与至少一个进气机构(3)的整个排气面之间，并且

其中，当至少一个屏蔽元件(6)位于所述保存室(17)时，一个或多个基板(10、10’)被涂层。

2.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基板架(9、9’)是单独调温且单独移动的。

3.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述至少一个进气机构(3)包括加热元件(12)，并且所述基板架(9、9’)包括冷却元件(13、13’)。

4.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，至少一个进气机构包括彼此并排布置的多个进气机构(3、3’)。