[发明专利]用来处理薄膜的装置以及方法在审
| 申请号: | 201780035351.8 | 申请日: | 2017-05-15 |
| 公开(公告)号: | CN109313302A | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
| 发明(设计)人: | 许材承;金种浩 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B29C55/04;G02F1/1335;C09J129/04;B29D11/00;C08J5/18;B29C55/02;G01N21/88;G01N21/17 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址: | 韩国京畿道龙仁*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 薄膜 位置状态 状态量测 状态确定 图像 状态显示 拍摄 | ||
1.一种用来处理薄膜的装置,包括:
状态量测构件,拍摄所述薄膜的图像;
状态确定构件,基于由所述状态量测构件拍摄的所述薄膜的所述图像来确定所述薄膜的位置状态;以及
状态显示构件,基于由所述状态确定构件所确定的所述薄膜的所述位置状态,根据所述薄膜的所述位置状态来显示标记。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述状态量测构件包括:
光照射构件,向所述薄膜照射光;以及
图像拍摄构件,接收被照射至所述薄膜的所述光并拍摄所述薄膜的图像。
3.根据权利要求2所述用来处理薄膜的装置,其中所述光照射构件照射与所述薄膜的宽度方向平行的线性光。
4.根据权利要求2所述用来处理薄膜的装置,其中所述用来处理薄膜的装置包括多个所述状态量测构件,且所述状态量测构件沿所述薄膜的纵向方向对齐。
5.根据权利要求4所述用来处理薄膜的装置,其中所述状态量测构件包括:
第一状态量测构件,在所述第一状态量测构件中,第一光照射构件设置于所述薄膜的第一侧上且第一图像拍摄构件设置于所述薄膜的第二侧上;以及
第二状态量测构件,在所述第二状态量测构件中,第二光照射构件设置于所述薄膜的所述第二侧上且第二图像拍摄构件设置于所述薄膜的所述第一侧上。
6.根据权利要求1所述用来处理薄膜的装置,其中所述状态显示构件根据所述薄膜的所述位置状态而在所述薄膜的对应位置上显示标记。
7.根据权利要求1至6中任一项所述用来处理薄膜的装置,其中所述状态显示构件包括显示构件,所述显示构件通过对所述薄膜喷射墨水而显示所述薄膜的所述状态。
8.根据权利要求7所述用来处理薄膜的装置,其中所述用来处理所述薄膜的装置包括多个所述显示构件,且所述显示构件沿所述薄膜的宽度方向对齐。
9.根据权利要求7所述用来处理薄膜的装置,其中所述显示构件通过喷射多个喷墨点而显示所述薄膜的所述状态。
10.根据权利要求7所述用来处理薄膜的装置,其中所述状态显示构件还包括:
显示支撑构件,支撑所述显示构件;以及
显示转移构件,连接至所述显示支撑构件并转移所述显示支撑构件。
11.根据权利要求10所述用来处理薄膜的装置,其中所述显示转移构件包括:
升降转移构件,连接至所述显示支撑构件并对所述显示支撑构件进行升降;以及
旋转转移构件,对所述显示支撑构件进行旋转。
12.根据权利要求1至6中任一项所述用来处理薄膜的装置,其中所述状态确定构件基于由所述状态量测构件所量测的所述薄膜的位置图像的灰度值是否处于参考灰度值范围内来确定所述薄膜的所述位置状态。
13.根据权利要求12所述用来处理薄膜的装置,其中所述状态确定构件基于以下中的至少一者来确定所述薄膜的所述位置状态:其中所述薄膜的所述灰度值超出所述参考灰度值范围的缺陷区域的区域大小;所述缺陷区域的不圆度值;所述缺陷区域的宽度;或所述缺陷区域的长度。
14.一种用来处理薄膜的方法,包括:
通过拍摄所述薄膜的图像来对所述薄膜的状态进行量测;
通过基于在所述薄膜的所述状态的所述量测中所量测的所述薄膜的所述图像对所述薄膜的位置状态进行分类来对所述薄膜的所述状态进行确定;以及
通过基于在所述薄膜的所述状态的所述确定中所确定的所述薄膜的所述位置状态而显示所述薄膜的所述位置状态的标记来对所述薄膜的所述状态进行显示。
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