[发明专利]铝合金溅射靶材在审
| 申请号： | 201780033719.7 | 申请日： | 2017-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN109312448A | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 吉田慎太郎;奥野博行 | 申请（专利权）人： | 株式会社钢臂功科研 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C21/12;C23C14/14;H01L51/50;H05B33/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本兵库县神户市中央区脇浜海岸*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铝合金溅射靶材 制造性 靶材 成膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种铝合金溅射靶材，其含有超过6原子％、17原子％以下的Cu，剩余部分包含Al及不可避免的杂质。
2.根据权利要求1所述的铝合金溅射靶材，其还含有0.1原子％～5.5原子％的稀土类元素。
3.根据权利要求2所述的铝合金溅射靶材，其中所述稀土类元素为选自由Nd、La、Y、Sc、Gd、Dy、Lu、Ce、Pr及Tb所组成的群组中的至少一种。
4.一种铝合金薄膜，其使用如权利要求1至3中任一项所述的铝合金溅射靶材而成膜。
5.根据权利要求4所述的铝合金薄膜，其为利用反应性溅射而成膜的氮化铝薄膜或氧化铝薄膜。
6.一种显示装置，其具备如权利要求4所述的的铝合金薄膜。
7.一种显示装置，其具备如权利要求5所述的的铝合金薄膜。
8.一种输入装置，其具备如权利要求4所述的的铝合金薄膜。
9.一种输入装置，其具备如权利要求5所述的的铝合金薄膜。
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