[发明专利]排气净化用催化剂有效
| 申请号： | 201780032369.2 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN109153014B | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 武居佑起;村上恭介;尾上亮太 | 申请（专利权）人： | 株式会社科特拉 |
| 主分类号： | B01J35/04 | 分类号： | B01J35/04;B01D53/94;B01J23/63;F01N3/28;F01N3/10 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 排气 净化 催化剂 | ||
1.一种排气净化用催化剂，其配置于内燃机的排气通路内并对从该内燃机排出的排气进行净化，该排气净化用催化剂的特征在于：
具有基材和形成于该基材的表面的催化剂涂层，
所述催化剂涂层含有作为贵金属催化剂的Rh和Pd以及具有氧吸存能力的OSC材料，
所述催化剂涂层具有在排气的流通方向上位于上游侧的前段涂层和位于下游侧的后段涂层，
所述前段涂层具有形成于所述基材上的前段下层和形成于该前段下层上的前段上层，
所述后段涂层具有形成于所述基材上的后段下层和形成于该后段下层上的后段上层，
所述Rh配置于所述前段涂层的前段上层和所述后段涂层的后段上层，
所述Pd配置于所述前段涂层的前段上层和前段下层以及所述后段涂层的后段下层，
配置于所述前段上层的Pd相对于Rh的质量比(APd/ARh)为0.9≤(APd/ARh)≤3。
2.如权利要求1所述的排气净化用催化剂，其特征在于：
配置于所述前段涂层的Pd相对于Rh的质量比与配置于所述后段涂层的Pd相对于Rh的质量比相同。
3.如权利要求1或2所述的排气净化用催化剂，其特征在于：
配置于所述前段上层的Pd相对于配置于所述前段下层的Pd的质量比(APd/BPd)为0.1≤(APd/BPd)≤0.7。
4.如权利要求1或2所述的排气净化用催化剂，其特征在于：
配置于所述后段下层的Pd相对于配置于所述后段上层的Rh的质量比(DPd/CRh)为5≤(DPd/CRh)≤10。
5.如权利要求1或2所述的排气净化用催化剂，其特征在于：
所述OSC材料包含CeO2或CeO2－ZrO2复合氧化物。
6.如权利要求5所述的排气净化用催化剂，其特征在于：
所述OSC材料至少配置于所述前段上层，
配置于所述前段上层的Pd相对于CeO2的质量比(APd/ACe)为0.01≤(APd/ACe)≤0.06。
7.如权利要求1或2所述的排气净化用催化剂，其特征在于：
所述前段涂层形成于从所述基材的排气入口侧的端部向排气出口侧、处于所述基材的长度的至少20％的部分，
所述后段涂层形成于从所述基材的排气出口侧的端部向排气入口侧、处于所述基材的长度的至少50％的部分。
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