[发明专利]基板温度监控

说明书

本文公开的实施方式大体涉及一种基板支撑组件中的基板温度监控系统。在一个实施方式中，所述基板支撑组件包括支撑板和基板温度监控系统。所述支撑板具有被配置为支撑基板的顶表面。所述基板温度监控系统设置在所述基板支撑板中。所述基板温度监控系统被配置为从所述基板的底表面测量所述基板的温度。所述基板温度监控系统包括窗口、主体和温度传感器。所述窗口一体地形成在所述支撑板的顶表面中。所述主体穿过所述底表面嵌入所述支撑板中。所述主体限定内部通道。所述温度传感器设置在所述窗口下方的所述内部通道中。所述温度传感器被配置为测量所述基板的温度。

技术领域

本文所述的实施方式大体涉及一种基板温度监控系统。

背景技术

平板显示器(FPD)通常用于有源矩阵显示器，诸如计算机和电视监控器、个人数字助理(PDA)和手机，以及太阳能电池和类似者。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)可以用于平板显示器制造以在基板上沉积薄膜。PECVD一般通过将前驱物气体激发成真空处理腔室内的等离子体并从激发的前驱物气体在基板上沉积膜来实现。

在沉积期间，真空处理腔室内的等离子体加热基板和基板支撑组件。等离子体可能导致基板支撑组件的温度具有瞬时温度增加或尖峰(例如，从150℃的约30℃-50℃增加、或20％-30％温度增加)。基板支撑组件的这种大程度的温度增加不期望地导致工艺变化。

因此，需要一种用于基板支撑组件的改善的基板温度监控系统。

发明内容

本文公开的实施方式大体涉及一种基板支撑组件中的基板温度监控系统。在一个实施方式中，本文公开所述基板支撑组件。所述基板支撑组件包括支撑板和基板温度监控系统。所述支撑板具有被配置为支撑基板的顶表面。所述基板温度监控系统设置在所述基板支撑板中。所述基板温度监控系统被配置为从所述基板的底表面测量所述基板的温度。所述基板温度监控系统包括窗口、主体和温度传感器。所述窗口一体地形成在所述支撑板的顶表面中。所述主体穿过所述底表面嵌入所述支撑板中。所述主体限定内部通道。所述温度传感器设置在所述窗口下方的所述内部通道中。所述温度传感器被配置为测量所述基板的温度。

在另一个实施方式中，本文公开一种基板支撑组件。所述基板支撑组件包括支撑板和基板温度监控系统。所述支撑板具有被配置为支撑基板的顶表面。所述基板温度监控系统设置在所述支撑板中。所述基板温度监控系统被配置为从所述基板的底表面测量所述基板的温度。所述基板温度监控系统包括主体、孔径螺母(aperture nut)、透镜、光纤管和控制器。所述主体限定内部空腔(inner cavity)。所述孔径螺母设置在所述主体中。所述透镜设置在所述主体中并由所述孔径螺母支撑。所述光纤管设置在所述内部空腔中，与所述透镜间隔开。所述光纤管被配置为通过所述透镜从所述基板的底部接收红外线。所述控制器与所述光纤管通信。所述控制器被配置为基于接收到的红外线而确定所述基板的温度。

在另一个实施方式中，本文公开一种处理腔室。所述处理腔室包括腔室主体和基板支撑组件。所述腔室主体包括顶壁、侧壁和底壁，所述顶壁、所述侧壁和所述底壁限定所述腔室主体中的处理区域。所述基板支撑组件设置在所述处理区域中。所述基板支撑组件包括支撑板和基板温度监控系统。所述支撑板具有被配置为支撑基板的顶表面。所述基板温度监控系统设置在所述支撑板中，并且被配置为从所述基板的底表面测量所述基板的温度。

附图说明

可通过参照实施方式(其中一些实施方式示出于附图中)来详细地理解本公开内容的上述特征以及上文简要概述的本公开内容的更具体的描述。然而，将注意，附图仅示出了本公开内容的典型实施方式，并且因此不应视为限制本公开内容的范围，因为本公开内容可允许其它等效的实施方式。

图1示出了根据一个实施方式的处理腔室的截面图，处理腔室中设置有基板支撑组件。

图2示出了根据一个实施方式的图1的支撑板的截面图，显示出了基板温度监控系统。