[发明专利]包括具有减反射涂层的基材的光学制品

说明书

本发明涉及一种包括具有两个主表面的基材的光学制品，其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖，所述涂层包含在所述外表面下方的具有第一折射率n₁的第一表面层以及在所述第一表面层下方的具有第二折射率n₂的第二层，其中，n₂n₁，并且所述第二层具有所述聚合物涂层的最低折射率，并且所述涂层由于折射率n₁与n₂之间的差异而展现出减反射特性，所述涂层内的所述折射率差异是由穿过所述外表面的对初始聚合物涂层的等离子体、电晕和/或离子束处理产生的。本发明还涉及一种用于制造此光学制品的方法。

本发明涉及一种包含减反射聚合物涂层的光学制品、特别是眼科镜片，以及一种用于制造这种光学制品的方法。

典型的光学制品构造(如眼科镜片构造)包括优选由有机玻璃制成的基材，所述基材的至少主表面通常涂覆有聚合物涂层以改进有机玻璃的抗冲击性和/或耐磨损性和/或耐刮擦性。

为了赋予光学制品减反射特性，无论是否涂有上述聚合物涂层，通常在基材或聚合物涂层上形成减反射涂层。典型地，这种减反射涂层由交替具有低折射率和高折射率的无机层的堆叠体制成。

除了这种减反射涂层的沉积意味着另外的制造步骤之外，这种具有无机性质的减反射涂层的存在对制品的机械特性也是有害的。

还已提出通过控制在制品基材主表面上形成的聚合物涂层表面的粗糙度来赋予光学制品减反射特性。可以通过使涂层的外表面经受等离子体蚀刻获得这种粗糙度控制。参见例如：

1.J.Hsu,P.Wang,Y.Lin,和H.Chen,“Anti-reflective effect of transparentpolymer by plasma treatment with end-hall ion source and optical coating[用端部霍尔离子源和光学涂层进行等离子体处理的透明聚合物的减反射效果],”Opt.Rev.[光学综述]17,1-4(2010)

2.U.Schulz和N.Kaiser,“Antireflective Coating with NanostructuredOrganic Top-Layer[具有纳米结构有机顶层的减反射涂层],”Opt.Interf.Coatings[光学界面涂层]1,WA2(2010)

3.U.Schulz,P.Munzert,R.Leitel,I.Wendling,N.Kaiser,和a Tünnermann,“Antireflection of transparent polymers by advanced plasma etchingprocedures.[通过先进的等离子体蚀刻程序的透明聚合物的减反射],”Opt.Express[光学快报]15,13108-13(2007)

4.G.S.Oehrlein,R.J.Phaneuf,和D.B.Graves,“Plasma-polymer interactions:A review of progress in understanding polymer resist mask durability duringplasma etching for nanoscale fabrication[等离子体-聚合物相互作用：关于理解在用于纳米级制造的等离子体蚀刻期间聚合物抗蚀剂掩模耐久性的进展的综述],”J.Vac.[真空杂志]

然而，由此产生的表面纳米结构在机械上较弱并且易于通过外部机械作用(如摩擦、擦拭等)改变，因此导致减反射特性降低并且甚至丧失。

因此，本发明的目的是提供一种具有减反射特性而没有已知现有技术的缺点的光学制品。

更具体地，本发明的目的是提供一种具有减反射特性的光学制品，所述光学制品不包含由无机材料层的堆叠体制成的减反射涂层，并且没有展现出具有粗糙表面的涂层的机械弱点。