[发明专利]包括具有减反射涂层的基材的光学制品有效
| 申请号: | 201780029027.5 | 申请日: | 2017-05-11 | 
| 公开(公告)号: | CN109196389B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 | 
| 发明(设计)人: | W·特罗蒂尔-拉普安特;O·扎贝达;L·马丁努;J·克莱伯格-赛皮哈;K·谢勒 | 申请(专利权)人: | 蒙特利尔综合理工学院公司;依视路国际公司 | 
| 主分类号: | G02B1/111 | 分类号: | G02B1/111 | 
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张振军;刘娜 | 
| 地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 包括 具有 反射 涂层 基材 光学 制品 | ||
1.一种包括具有两个主表面的基材的光学制品,其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖,所述聚合物涂层包含在所述外表面下方的具有第一折射率n1的第一表面层以及在所述第一表面层下方的具有第二折射率n2的第二层,其中,n2n1,并且所述第二层具有所述聚合物涂层的最低折射率,并且所述聚合物涂层由于第一折射率n1与第二折射率n2之间的差异而展现出减反射特性,
其特征在于所述聚合物涂层内的所述第一折射率n1与第二折射率n2之间的差异是由穿过所述外表面的对初始聚合物涂层的等离子体处理产生的,所述等离子体处理由具有范围从0.05至1.5W/cm2的表面功率密度的射频源获得,
和其中所述聚合物涂层包含至少一种环氧硅烷聚合物。
2.根据权利要求1所述的光学制品,其中所述聚合物涂层包含位于所述第二层下方并且具有第三折射率n3的第三层,并且第三折射率n3大于第二折射率n2。
3.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中n1-n2是高于或等于0.05。
4.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述第一表面层和所述第二层不相邻,并且所述聚合物涂层内的设置在所述第一表面层和所述第二层之间的折射率从所述第一表面层到所述第二层以连续或不连续的方式变化。
5.根据权利要求4所述的光学制品,其中所述折射率的变化是梯度。
6.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述第二层具有比所述第一表面层更高的孔隙率。
7.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层的所述外表面在所述等离子体处理后展现出更大的硬度。
8.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层具有范围从2微米至4微米的厚度。
9.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述第二层位于距离所述聚合物涂层的所述外表面从15nm至55nm。
10.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层的所述外表面具有低于10nm的粗糙度Ra。
11.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层包含至少一种无机胶体。
12.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层包含含有有机基团的基质。
13.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述等离子体是双氧等离子体。
14.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层的外表面在15°和45°入射角下展现出低于2.5%的Rv值。
15.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中n1-n2是高于或等于0.10。
16.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层的所述外表面具有低于5nm的粗糙度Ra。
17.根据权利要求1或2所述的光学制品,其中所述聚合物涂层的所述外表面具有低于2nm的粗糙度Ra。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蒙特利尔综合理工学院公司;依视路国际公司,未经蒙特利尔综合理工学院公司;依视路国际公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780029027.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





