[发明专利]具有真空轮的输送系统

权利要求书

1.一种用于输送基板的系统，所述系统包括：

非接触支撑平台，所述非接触支撑平台被配置为将所述基板支撑在距所述非接触支撑平台的表面的非零距离处；

真空轮，所述真空轮与所述非接触支撑平台的一部分相邻地定位，所述真空轮的周边轮缘包括多个穿孔，所述穿孔在所述轮缘的外部与所述真空轮的内部之间敞开，所述多个穿孔被布置为多个平行的排，所述排相对于所述真空轮的轴线以一倾斜角定向；以及

固定的抽吸表面，所述抽吸表面在所述真空轮内部，所述抽吸表面包括导管的开口，所述导管能连接到抽吸源，腔室由所述抽吸表面、所述真空轮的壁以及所述周边轮缘的与所述抽吸表面相邻并从所述非接触支撑的所述表面向外延伸的区段形成，

其中，当抽吸由所述抽吸源施加到所述导管时，所述抽吸经由所述腔室施加到所述周边轮缘的所述区段中的所述穿孔，以便朝向所述轮缘在所述基板上施加拉拔，使得所述真空轮的旋转输送所述基板。

2.根据权利要求1的所述系统，其中，所述非接触支撑平台被配置为产生双向刚度。

3.根据权利要求1或2的所述系统，其中，所述非接触支撑平台包括至少两个平行轨道，并且其中，所述真空轮位于所述至少两个平行轨道中的两个平行轨道之间的间隙中。

4.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述真空轮位于所述非接触支撑平台的开口中。

5.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述真空轮与所述非接触支撑平台的边缘相邻地定位。

6.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述多个穿孔被布置为使得在所施加的抽吸大致上恒定时，所施加的拉拔在所述真空轮旋转时保持大致上恒定。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述多个穿孔与位于所述周边轮缘上并大致上平行于所述真空轮的轮轴的任何线的交线的总长度大致上恒定。

8.根据权利要求6所述的系统，其中，所述多个穿孔中的每对方位上相邻的穿孔重叠了大致上恒定的方位位移。

9.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述轮缘包括防滑材料。

10.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述抽吸表面在切向方向上凸出地弯曲，所述抽吸表面的曲率小于所述轮缘的曲率。

11.根据权利要求1或2所述的系统，进一步包括抽吸源。

12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述抽吸源能进一步操作成施加挤压。

13.根据权利要求12所述的系统，进一步包括控制器，所述控制器被配置为控制所述抽吸源施加所述抽吸或所述挤压。

14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述控制器被配置为控制所述抽吸源在所述基板的前缘接近所述轮缘的所述区段处时施加所述挤压并在所述基板的表面处于所述轮缘的所述区段处时施加所述抽吸。

15.根据权利要求14所述的系统，进一步包括一个或多个传感器，以检测所述基板何时处于所述轮缘的所述区段处。

16.根据权利要求15所述的系统，其中，所述一个或多个传感器包括接近传感器。

17.根据权利要求13所述的系统，其中，所述控制器被配置为控制所述抽吸源在所述基板的后缘处于所述轮缘的所述区段处时施加所述挤压。

18.根据权利要求17所述的系统，进一步包括一个或多个传感器，以检测所述后缘何时处于所述轮缘的所述区段处。

19.根据权利要求18所述的系统，其中，所述一个或多个传感器包括压力传感器。