[发明专利]光纤及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780021119.9 申请日: 2017-03-29
公开(公告)号: CN108885303B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 长洲胜文;丸山辽 申请(专利权)人: 株式会社藤仓
主分类号: G02B6/036 分类号: G02B6/036;C03C25/26;C03C25/285;G02B6/44
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;王培超
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光纤 及其 制造 方法
【说明书】:

本发明涉及光纤及其制造方法,在具备夹设于纤芯(111)与包层(113)之间的凹陷层(112)的光纤(1)中,使有效纤芯截面积Aeff为100μm2以上且129μm2以下,使纤芯(111)的半径r1为5.2μm以上且7.4μm以下,使纤芯(111)的折射率体积Vcore为8.5%μm2以上且16.5%μm2以下,使凹陷层(112)的折射率体积Vdep为‑40%μm2以上且低于0μm2

技术领域

本发明涉及一种具备凹陷层的光纤。另外,涉及这样的光纤的制造方法。

背景技术

为了实现能够长距离传输的光通信系统,使光信号的功率变大,并且使作为传输介质的光纤的传输损耗变小,并改善光信噪比较为重要。然而,若使光信号的功率变大,则由于光纤的非线性光学效应而使光信噪比恶化。因此,经常采用通过扩大光纤的有效纤芯截面积Aeff来抑制非线性光学效应的方法。

然而,有效纤芯截面积Aeff的扩大伴随着微弯损耗的增大这样的副作用。因此,在需要将缆线化时的损耗抑制为较小的长距离传输用的光纤中,需要在对伴随着有效纤芯截面积Aeff的扩大而存在的微弯损耗的增大进行抑制上下功夫。

专利文献1公开有通过使被覆层的杨氏模量与厚度最佳化,来抑制伴随着有效纤芯截面积Aeff的扩大而存在的微弯损耗的增大的技术。

专利文献1:国际公开2000/062106号小册子(国际公开日:2000年10月19日)

然而,仅仅依靠根据专利文献1使被覆层的杨氏模量与厚度最佳化来将光纤的微弯损耗抑制为耐受长距离传输的等级较为困难。例如,关于收容于带状插口型缆线的光纤,无法将其微弯损耗抑制为耐受长距离传输的等级。

发明内容

本发明是鉴于上述的问题而完成的,在于实现通过专利文献1中所忽略的折射率分布的最佳化而抑制微弯损耗的光纤。

为了解决上述的课题,本发明的一方式的光纤的特征在于,包括:纤芯;折射率比上述纤芯低的包层;以及夹设于上述纤芯与上述包层之间的折射率比上述包层低的凹陷层,有效纤芯截面积Aeff为100μm2以上且129μm2以下,上述纤芯的半径r1为5.2μm以上且7.4μm以下,上述纤芯的折射率体积Vcore为8.5%μm2以上且16.5%μm2以下,上述凹陷层的折射率体积Vdep为-40%μm2以上且低于0μm2

为了解决上述的课题,本发明的其他的方式的制造方法是制造光纤的制造方法,该光纤具备:纤芯;折射率比上述纤芯低的包层;以及夹设于上述纤芯与上述包层之间的折射率比上述包层低的凹陷层,且传播常数差Δβ为规定值Δβ0[rad/m]以上,上述制造方法的特征在于,包括按照下述条件决定上述光纤的折射率分布的工序:(a)有效纤芯截面积Aeff为100[μm2]以上且(16650[rad/m]-Δβ0[rad/m])/63.2[(rad/m)·(1/μm2)]以下,(b)上述纤芯的半径r1为(9329[rad/m]+Δβ0[rad/m])/3429[(rad/m)/μm]以上且(21180[rad/m]-Δβ0[rad/m])/1714[(rad/m)/μm]以下,(c)上述纤芯的折射率体积Vcore为(-655[rad/m]+Δβ0[rad/m])/923[(rad/m)/(%μm2)]以上且(16420[rad/m]-Δβ0[rad/m])/480[(rad/m)/(%μm2)]以下,(d)上述凹陷层的折射率体积Vdep为(-13300[rad/m]+Δβ0[rad/m])/120[(rad/m)/(%μm2)]以上且低于0[μm2]。

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