[发明专利]光纤及其制造方法

权利要求书

1.一种光纤，其特征在于，具备：

纤芯；折射率比所述纤芯低的包层；以及夹设于所述纤芯与所述包层之间的折射率比所述包层低的凹陷层，

波长1.55μm的有效纤芯截面积Aeff为105.3μm²以上且115.3μm²以下，

所述纤芯的半径r1为5.2μm以上且7.4μm以下，

所述纤芯的折射率体积Vcore为8.5％μm²以上且16.5％μm²以下，

所述凹陷层的折射率体积Vdep为-40％μm²以上且低于0％μm²，

所述纤芯的折射率相对于所述包层的折射率的相对折射率差Δ1为0.28％以上且0.34％以下，

所述凹陷层的折射率相对于所述包层的折射率的相对折射率差Δ2为-0.07％以上且0.00％以下。

2.根据权利要求1所述的光纤，其特征在于，

传播常数差Δβ为8500rad/m以上。

3.根据权利要求2所述的光纤，其特征在于，

该光纤是锗纤芯的光纤，

所述纤芯的折射率相对于所述包层的折射率的相对折射率差Δ1为0.28％以上且0.33％以下。

4.根据权利要求2所述的光纤，其特征在于，

该光纤是二氧化硅纤芯的光纤，

所述纤芯的氯浓度为0.2wt％以上且2.0wt％以下。

5.根据权利要求1所述的光纤，其特征在于，

波长1.55μm的所述有效纤芯截面积Aeff为105.3μm²以上且110μm²以下，

所述纤芯的半径r1为5.55μm以上且6.7μm以下，

所述纤芯的折射率体积Vcore为9.8％μm²以上且14％μm²以下，

所述凹陷层的折射率体积Vdep为-30％μm²以上且低于0％μm²。

6.根据权利要求5所述的光纤，其特征在于，

传播常数差Δβ为9700rad/m以上。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光纤，其特征在于，还具备：

覆盖所述包层的外侧面的一次被覆层；和覆盖所述一次被覆层的外侧面的二次被覆层，

所述一次被覆层是由杨氏模量为1.0MPa以下的紫外线固化树脂形成的外径为130μm以上且250μm以下的被覆层，

所述二次被覆层是由杨氏模量为500MPa以上的紫外线固化树脂形成的外径为160μm以上且400μm以下的被覆层。