[发明专利]导电性基板

说明书

本发明提供一种导电性基板，其具有：透明基材；金属层，配置在所述透明基材的至少一个表面上；及湿式镀黑化层，配置在所述金属层上，其中，所述金属层的与所述湿式镀黑化层相对的表面的表面粗糙度Ra(μm)为所述湿式镀黑化层的厚度(μm)的0.35倍以上。

技术领域

本发明涉及导电性基板。

背景技术

静电容量式触屏(touch panel)藉由对接近面板表面的物体所引起的静电容量的变化进行检测，可将面板表面上的接近物体的位置信息变换为电信号。由于静电容量式触屏中所使用的导电性基板设置在显示器表面上，故要求导电性基板的导电层的材料的反射率较低且难以被视认。

因此，作为静电容量式触屏中所使用的导电性基板的导电层的材料，使用了反射率较低且难以被视认的材料，并在透明基板或透明薄膜上还形成了配线。

例如，专利文献1中公开了一种透明导电性薄膜，其包括高分子薄膜及在其上采用气相成膜法所设置的由金属氧化物组成的透明导电膜，其特征在于，由第一金属氧化物组成的透明导电膜及在其上所设置的由第二金属氧化物组成的透明导电膜构成了上述由金属氧化物组成的透明导电膜，并且在与由第一金属氧化物组成的透明导电膜的成膜条件不同的条件下形成了上述由第二金属氧化物组成的透明导电膜。此外，还公开了由金属氧化物组成的透明导电膜为氧化铟－氧化锡(ITO)膜。

另外，近年来，具备触屏的显示器正趋于大画面化和高性能化，与此相应地，研究了作为导电层的材料使用铜等金属以取代电阻较高的ITO的技术(例如，参照专利文献2、3)。然而，由于金属具有金属光泽，故存在反射会导致显示器的视认性下降的问题。为此，还研究了除了作为导电层的铜等金属层之外还具有由黑色材料构成的黑化层的导电性基板。

[现有技术文献]

[专利文献]

〔专利文献1〕日本国特开2003－151358号公报

〔专利文献2〕日本国特开2011－018194号公报

〔专利文献3〕日本国特开2013－069261号公报

发明内容

[发明要解决的课题]

此外，就具有金属层和黑化层的导电性基板而言，为了使其成为具有预期配线图案的导电性基板，通常采用一种在透明基材的至少一个表面上形成金属层和黑化层之后，再对金属层和黑化层进行蚀刻的方法。

然而，对金属层和黑化层进行蚀刻时，在导电性基板内存在例如一部分会比其他部分先溶解等进而导致难以均匀地进行蚀刻的情况。如此，若不能在导电性基板内均匀地进行蚀刻，则存在所形成的配线图案的线宽会产生偏差的情况，这是一种问题。

鉴于上述先前技术的问题，于本发明的一方面，以提供一种蚀刻均匀性较优的导电性基板为目的。

[用于解决课题的手段]

为了解决上述课题，于本发明的一方面，提供一种导电性基板，其具有：

透明基材；

金属层，配置在所述透明基材的至少一个表面上；及

湿式镀黑化层，配置在所述金属层上，

其中，所述金属层的与所述湿式镀黑化层相对的表面的表面粗糙度Ra(μm)为所述湿式镀黑化层的厚度(μm)的0.35倍以上。

[发明效果]

根据本发明的一方面，可提供一种蚀刻均匀性较优的导电性基板。

附图说明

〔图1A〕本发明实施方式的导电性基板的剖面图。

〔图1B〕本发明实施方式的导电性基板的剖面图。