[发明专利]导电材料及其制造方法

说明书

本发明提供了一种导电材料，该导电材料具有位于基材表面上的平均膜厚为1μm至300μm的钛膜，其中该基材至少在其表面具有导电性。

技术领域

本公开涉及导电材料及其制造方法。本申请要求于2016年3月18日提交的日本专利申请No.2016-055432以及于2016年6月29日提交的日本专利申请No.2016-128561的优先权，这些专利申请的全部内容以引用方式并入本文。

背景技术

钛是一种具有优异的耐腐蚀性、耐热性和比强度的金属。然而，钛的生产成本高且难以熔炼和加工，这妨碍了钛的广泛应用。作为利用钛和钛化合物的高耐腐蚀性、高强度和其他性质的方法之一，目前工业上的某些情况中采用了诸如化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)之类的干式沉积。然而，这种沉积不能应用于复杂形状的基板。作为能够解决这一问题的钛沉积方法，可使用在熔融盐中电沉积钛。

可用于钛的电沉积的各种类型的熔融盐浴是已知的，并且人们对此正在进行研究。例如，非专利文献1描述了通过使用添加有K₂TiF₆的LiF-NaF-KF熔融盐浴从而在Ni或Fe表面上形成钛膜的方法。非专利文献2描述了通过使用添加有TiCl₃的LiCl-KCl熔融盐浴从而在Au或Ni表面上形成钛膜的方法。非专利文献3描述了通过使用添加有K₂TiF₆的LiCl-NaCl-KCl熔融盐浴从而在SUS304表面上形成钛膜的方法。此外，日本专利待审查公开No.2015-193899(专利文献1)描述了通过使用添加有K₂TiF₆或TiO₂的KF-KCl熔融盐浴从而在Fe线的表面上形成Fe和Ti的合金膜。

此外，通过使用熔融盐浴从而在基材上析出高纯度金属钛的熔炼方法也是已知的。例如，日本专利待审查公开No.08-225980(专利文献2)描述了通过使用添加有TiCl₄的NaCl浴作为熔融盐浴从而在Ni表面上析出高纯度钛的方法。另外，日本专利待审查公开No.09-071890(专利文献3)描述了通过使用NaCl浴或Na-KCl浴从而在钛棒的表面上析出高纯度钛的方法。

引用列表

专利文献

专利文献1：日本专利待审查公开No.2015-193899

专利文献2：日本专利待审查公开No.08-225980

专利文献3：日本专利待审查公开No.09-071890

非专利文献

非专利文献1：Robin等人，Electrolytic Coating of Titanium onto Iron andNickel Electrodes in the Molten LiF+NaF+KF Eutectic,Journal ofElectroanalytical Chemistry and Interfacial Electrochemistry,1987，第230卷，第125-141页

非专利文献2：Hiroshi Takamura等人，Smooth and Fine Electrodepositionof Titanium from LiCl-KCl-TiCl₃Melt,Journal of the Japan Institute of Metalsand Materials,1996，第60卷，第4期，第388-397页