[发明专利]用于对间隙进行密封的密封系统

说明书

本发明涉及一种用于工艺技术的装置或者设备的密封系统，其包括：一个构件系统，其带有两个局部在间隙(3)的区域中毗邻的构件(1、2)，其中在两个构件中的一个上朝向间隙(3)构造有槽(10)，该槽构造为L形并且朝向间隙(3)的边缘(7)敞开，其中密封件(100)嵌入槽(10)中，该密封件同样具有L形形状，该L形形状与槽(10)的L形形状相对应，为此它具有第一密封边腿(101)和与其垂直的第二密封边腿(102)，其中第一密封边腿(101)设计为：其嵌入第一槽边腿(11)中，并且第二密封边腿(102)设计为：其能够嵌入第二槽边腿(12)中并固定夹紧在那里，并且密封腿部(103)方式的第一密封边腿(110)利用尺寸超出量夹紧在第一槽边腿(11)中。

技术领域

本发明涉及一种用于对间隙进行密封的密封系统。

背景技术

在现有技术中已知(参阅例如DE 10 2011 081 973 A1)对两个毗邻的构件之间的间隙利用L形的密封件进行密封，该密封件利用足部区域嵌入两个限定所述间隙的构件中的第一构件内的一个L形槽中，其中，密封面超出所述槽伸出地延伸，该密封面在间隙的相对置的侧上贴靠在其他的第二构件上。这个密封件构造比较复杂并且要求一个在结构上制造复杂的槽，该槽带有一个特殊的、延伸到该槽中的凸起，这同时还带来风险：在槽中容易形成污物。

就这点而言，在对两个构件之间的间隙的边缘区域进行密封的情况中，不仅密封功能很重要，而且设计和构造也如此重要，即，一方面在间隙上和在密封件上形成少量的沉积物，另一方面具有在密封件裸露区域的间隙上进行清洁的良好可能性。

发明内容

在本发明的范围内应该实现一种密封系统和一种密封件，所述密封系统和密封件分别良好地满足这些要求，也就是说，所述密封件一方面应该良好地满足其密封功能，另一方面应该设计为，形成尽可能少的污垢角或者间隙，沉积物形成在这些污垢角或者间隙中。这在工艺技术的设备中是经常提出的、用于改善所有与产品接触的组件的清洁性、灭菌或者消毒的要求。

为此，本发明提出一种密封系统，其用于工艺技术的装置或者设备，该密封系统包括：

a.构件系统，所述构件系统具有两个局部在间隙的区域中毗邻的构件，在这两个构件中的一个构件上朝向间隙构造有槽，该槽构造为L形并且朝向间隙的边缘敞开，所述槽的第一槽边腿垂直于间隙的平面延伸，并且另一个槽边腿垂直于第一槽边腿定向，所述另一个槽边腿构造为朝向空间敞开；

b.密封件嵌入槽中，该密封件同样具有L形形状，该密封件的L形形状与槽的L形形状相对应，为此该密封件具有第一密封边腿和与第一密封边腿垂直的第二密封边腿；

c.第一密封边腿设计为，使得该第一密封边腿嵌入第一槽边腿中，并且第二密封边腿设计为，使得该第二密封边腿能够嵌入第二槽边腿中并固定夹紧在那里；

d.密封件在未嵌入的状态中相对于槽的尺寸具有尺寸超出量并且嵌入槽中并且固定夹紧在该槽中；

其特征在于，

e.第一密封边腿在其未嵌入槽的第一槽边腿中的状态中在密封足部的区域中相对于所述槽具有尺寸超出量；

f.至少在第一密封边腿朝向所述槽的壁的三个外面上，在密封件嵌入并压缩到槽中的状态中，分别构造有垂直于密封横截面沿着所述槽的相应壁延伸的沟槽，并且一个或者多个沟槽的尺寸确定为，即使在密封足部嵌入第一槽边腿中的状态中，在沟槽的区域中在密封件与槽的相应配置的内壁之间分别依然存在间距，所述沟槽中的至少两个沟槽构造在第一槽边腿的区域中并且在该第一槽边腿的相应槽壁的区域中大致居中地延伸；和

g.在密封足部上方构造有密封区域，该密封区域朝向间隙边缘具有边缘面，其中该边缘面设计为，使得该边缘面与在构件的与间隙面成角度延伸的边缘面之间构造有基本上平坦的过渡部。