[发明专利]用于对间隙进行密封的密封系统

权利要求书

1.密封系统，其用于工艺技术的装置或者设备，该密封系统包括：

a.构件系统，所述构件系统具有两个局部在间隙(3)的区域中毗邻的构件(1、2)，在这两个构件中的一个构件上朝向间隙(3)构造有槽(10)，该槽构造为L形并且朝向间隙(3)的边缘(7)敞开，所述槽(10)的第一槽边腿(11)垂直于间隙(3)的平面延伸，并且另一个槽边腿(12)垂直于第一槽边腿(11)定向，所述另一个槽边腿构造为朝向空间(4)敞开；

b.密封件(100)嵌入槽(10)中，该密封件同样具有L形形状，该密封件的L形形状与槽(10)的L形形状相对应，为此该密封件具有第一密封边腿(101)和与第一密封边腿垂直的第二密封边腿(102)；

c.第一密封边腿(101)设计为，使得该第一密封边腿嵌入第一槽边腿(11)中，并且第二密封边腿(102)设计为，使得该第二密封边腿能够嵌入第二槽边腿(12)中并固定夹紧在那里；

d.密封件(100)在未嵌入的状态中相对于槽的尺寸具有尺寸超出量并且嵌入槽(10)中并且固定夹紧在该槽中；

其特征在于，

e.第一密封边腿(101)在其未嵌入槽(10)的第一槽边腿中的状态中在密封足部的区域中相对于所述槽(10)具有尺寸超出量(O3)；

f.至少在第一密封边腿(110)朝向所述槽(10)的壁的三个外面(103a、103b、103c)上，在密封件(100)嵌入并压缩到槽(10)中的状态中，分别构造有垂直于密封横截面沿着所述槽的相应壁延伸的沟槽(104、105、106)，并且一个或者多个沟槽(104、105、106)的尺寸确定为，即使在密封足部(103)嵌入第一槽边腿(11)中的状态中，在沟槽(104、105、106)的区域中在密封件(100)与槽(10)的相应配置的内壁之间分别依然存在间距，所述沟槽中的至少两个沟槽(105、106)构造在第一槽边腿(11)的区域中并且在该第一槽边腿(11)的相应槽壁的区域中大致居中地延伸；和

g.在密封足部(103)上方构造有密封区域(110)，该密封区域朝向间隙边缘(7)具有边缘面(111)，其中该边缘面(111)设计为，使得该边缘面(111)与在构件(1、2)的与间隙面(3)成角度延伸的边缘面之间构造有基本上平坦的过渡部。

2.如权利要求1所述的密封系统，其特征在于，密封区域此外具有密封面(109a、109b)，所述密封面密封地贴靠在第一构件(1)与间隙(3)的分界面(5)上。

3.如权利要求2所述的密封系统，其特征在于，密封面(109a、109b)具有沟槽(112)，该密封面的沟槽的尺寸确定为，即使在密封件(100)嵌入间隙(3)中的状态中，在该沟槽(112)的区域中在所述密封件(100)与第一构件(1)的分界面(5)之间存在间距。

4.如权利要求1至3之任一项所述的密封系统，其特征在于，在沟槽中的每个沟槽的两侧，配属的密封件外面直接贴靠在相应构件(1、2)的配属的内壁上。

5.如权利要求1至3之任一项所述的密封系统，其特征在于，密封足部(103)的一个或者多个角棱构造为斜切的并且构成斜边(107、108)，所述斜边(107、108)的尺寸确定成，使得所述斜边不接触槽(10)的相应的角棱。

6.如权利要求1至3之任一项所述的密封系统，其特征在于，密封件(100)构造为挤压型材或者构造为周缘封闭的环形型材。

7.如权利要求1至3之任一项所述的密封系统，其特征在于，密封件(100)由弹性体构成。