[发明专利]采用等离子弧流的组织治疗

说明书

一种组织治疗装置，包含电路驱动器、电极和等离子弧聚焦元件，它们全部设置在外壳内。所述电路驱动器产生等离子弧源信号。所述电极响应于所述等离子弧源信号产生等离子体流。所述等离子弧聚焦元件使所述等离子体流聚焦以穿过所述外壳的出口孔并到达治疗受试者的靶组织上的靶点，以对所述靶组织进行热处理。在一些实施方案中，所述电路驱动器通过调制所述等离子弧源信号的基频、功率水平、脉冲频率和/或脉冲占空比来控制所述靶组织的温升。

相关申请

本申请要求2016年2月19日提交的标题为“采用等离子弧流的组织治疗(TissueTreatment with Plasma Arc Stream)”的美国临时专利申请号62/297,633的权益，出于所有目的将该申请通过引用特此并入。

背景技术

一些类型的医学病况可能非常持久并且难以治疗或治疗成本高昂。例如，对人的脚趾甲上的真菌的治疗通常在医生的办公室中用昂贵的激光装置进行。或者，在数月的时间内将抗真菌乳膏或软膏应用于感染区域。需要一种快速、低成本、易于使用的治疗方法。

发明内容

在一些实施方案中，组织治疗装置包含外壳、电路驱动器、电极和等离子弧聚焦元件。外壳包含出口孔。电路驱动器设置在外壳内并产生等离子弧源信号。电极设置在外壳内，接收等离子弧源信号，并响应于等离子弧源信号产生等离子体流。等离子弧聚焦元件设置在外壳内，与电极和出口孔相邻。等离子弧聚焦元件使等离子体流聚焦以穿过出口孔并到达治疗受试者的靶组织上的靶点，以对靶组织进行热处理。在一些实施方案中，所述组织治疗装置进一步包含等离子弧转向元件，其设置在外壳内，与电极和出口孔相邻。在一些实施方案中，等离子弧转向元件控制等离子体流的方向以在大于靶点的区域上扫描靶点。在一些实施方案中，等离子弧聚焦元件和等离子弧转向元件是单个磁场线圈。在一些实施方案中，等离子弧聚焦元件是第一磁场线圈，并且等离子弧转向元件是第二磁场线圈。在一些实施方案中，等离子弧聚焦元件使等离子体流针对靶点缩小至2mm或更小的直径。在一些实施方案中，电路驱动器通过调制等离子弧源信号的基频和功率水平来控制由等离子体流引起的靶组织的温升。在一些实施方案中，电路驱动器进一步通过调制脉冲频率和脉冲占空比来控制温升，在所述脉冲频率和所述脉冲占空比下等离子弧源信号是脉冲式的。在一些实施方案中，等离子体流能够在靶点处的靶组织的表面下方产生空化压力波。在一些实施方案中，热处理能够治疗靶组织的医学病况，如真菌感染、细菌感染、丘疹或发热性水疱。在一些实施方案中，组织治疗装置进一步包含接地垫，所述接地垫能够接触治疗受试者的皮肤表面以形成电回流路径。在一些实施方案中，组织治疗装置进一步包含气室，所述气室设置在外壳内，并包含流向出口孔的惰性气体，其中等离子体流在惰性气体中产生。在一些实施方案中，组织治疗装置进一步包含电力存储源，所述电力存储源设置在外壳内并电连接至电路驱动器，以向电路驱动器提供电力以产生等离子弧源信号。

在一些实施方案中，组织治疗装置包含外壳、电路驱动器和电极。外壳包含出口孔。电路驱动器设置在外壳内并产生等离子弧源信号。电极设置在外壳内，接收等离子弧源信号，并响应于等离子弧源信号产生等离子体流。所述等离子体流穿过所述出口孔并到达治疗受试者的靶组织上的靶点，以对所述靶组织进行热处理。所述电路驱动器通过调制所述等离子弧源信号的功率水平来控制由所述等离子体流引起的所述靶组织的温升。在一些实施方案中，电路驱动器进一步通过调制等离子弧源信号的基频来控制温升。在一些实施方案中，电路驱动器进一步通过调制脉冲频率或脉冲占空比来控制温升，在所述脉冲频率或脉冲占空比下等离子弧源信号是脉冲式的。在一些实施方案中，组织治疗装置进一步包含等离子弧聚焦元件，所述等离子弧聚焦元件设置在外壳内，与电极和出口孔相邻，并且将等离子体流聚焦以穿过出口孔并到达靶点。