[发明专利]采用等离子弧流的组织治疗

权利要求书

1.一种组织治疗装置，其包含：

外壳，其包含出口孔；

电路驱动器，其设置在所述外壳内并产生等离子弧源信号；

电极，其设置在所述外壳内，并接收所述等离子弧源信号，并且响应于所述等离子弧源信号产生等离子体流；以及

等离子弧聚焦元件，其设置在所述外壳内，与所述电极和所述出口孔相邻，并且使所述等离子体流聚焦以穿过所述出口孔并到达治疗受试者的靶组织上的靶点，以对所述靶组织进行热处理。

2.如权利要求1所述的组织治疗装置，其进一步包含：

等离子弧转向元件，其设置在所述外壳内，与所述电极和所述出口孔相邻，并且控制所述等离子体流的方向以在大于所述靶点的区域上扫描所述靶点。

3.如权利要求2所述的组织治疗装置，其中：

所述等离子弧聚焦元件和所述等离子弧转向元件包括单个磁场线圈。

4.如权利要求2所述的组织治疗装置，其中：

所述等离子弧聚焦元件包括第一磁场线圈；并且

所述等离子弧转向元件包括第二磁场线圈。

5.如权利要求1所述的组织治疗装置，其中：

所述等离子弧聚焦元件使所述等离子体流针对所述靶点缩小至2mm或更小的直径。

6.如权利要求1所述的组织治疗装置，其中：

所述电路驱动器通过调制所述等离子弧源信号的基频和功率水平来控制由所述等离子体流引起的所述靶组织的温升。

7.如权利要求6所述的组织治疗装置，其中：

所述电路驱动器进一步通过调制脉冲频率和脉冲占空比来控制所述温升，在所述脉冲频率和所述脉冲占空比下所述等离子弧源信号是脉冲式的。

8.如权利要求1所述的组织治疗装置，其中：

所述等离子体流能够在所述靶点处的所述靶组织的表面下方产生空化压力波。

9.如权利要求1所述的组织治疗装置，其中：

所述热处理能够治疗所述靶组织的医学病况，所述医学病况为真菌感染、细菌感染、丘疹和发热性水疱中的至少一种。

10.如权利要求1所述的组织治疗装置，其进一步包含：

接地垫，其通过所述外壳电连接至所述电路驱动器，其中所述接地垫能够接触所述治疗受试者的皮肤表面以形成电回流路径。

11.如权利要求1所述的组织治疗装置，其进一步包含：

气室，其设置在所述外壳内，并包含流向所述出口孔的惰性气体，其中所述等离子体流在所述惰性气体中产生。

12.如权利要求1所述的组织治疗装置，其进一步包含：

电力存储源，其设置在所述外壳内并电连接至所述电路驱动器，以向所述电路驱动器提供电力以产生所述等离子弧源信号。

13.一种组织治疗装置，其包含：

外壳，其包含出口孔；

电路驱动器，其设置在所述外壳内并产生等离子弧源信号；以及

电极，其设置在所述外壳内，并接收所述等离子弧源信号，并且响应于所述等离子弧源信号产生等离子体流；

其中：

所述等离子体流穿过所述出口孔并到达治疗受试者的靶组织上的靶点，以对所述靶组织进行热处理；并且

所述电路驱动器通过调制所述等离子弧源信号的功率水平来控制由所述等离子体流引起的所述靶组织的温升。

14.如权利要求13所述的组织治疗装置，其中：

所述电路驱动器进一步通过调制所述等离子弧源信号的基频来控制所述温升。