[发明专利]雾气产生装置、成膜装置、雾气产生方法、成膜方法、及元件制造方法有效
申请号: | 201780016625.9 | 申请日: | 2017-03-07 |
公开(公告)号: | CN108778527B | 公开(公告)日: | 2022-01-21 |
发明(设计)人: | 奈良圭;西康孝;中积诚;岩堀恒一郎;山田研太郎;铃木涼子 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | B05B17/06 | 分类号: | B05B17/06;B05D1/02;B05D1/06;B05D1/32;B05D3/10;B05D5/12;B05D7/24;G03F7/20;H01B13/00;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;任默闻 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 雾气 产生 装置 方法 元件 制造 | ||
本发明的产生包含微粒子(NP)的雾气(MT)的雾气产生装置(MG1)包含:容器(30a),其保持包含微粒子(NP)的分散液(DIL);第1振动部(32a),其通过对容器(30a)内的分散液(DIL)赋予第1频率的振动,而抑制微粒子(NP)于分散液(DIL)中的凝集;以及第2振动部(34a),其对容器(30a)内的分散液(DIL)赋予高于第1频率、且用以自分散液(DIL)的表面产生包含微粒子(NP)的雾气(MT)的第2频率的振动。
技术领域
本发明是关于一种产生包含微粒子的雾气的雾气产生装置及其雾气产生方法、使用所产生的雾气于基板上形成薄膜的成膜装置及其成膜方法、以及使用所形成的薄膜制造电子元件的元件制造方法。
背景技术
制造半导体元件、显示元件、配线基板、及感测器元件等时,于金属基板或塑料基板等母材的表面,使用成膜装置而形成有包含各种物质的薄膜。作为使用成膜装置的成膜方法,已知有于真空中的高温的环境下于母材形成薄膜的方式、将包含应成膜的物质(微粒子)的溶液涂布于母材的表面并使的干燥的方式等各种方式。近年来,立足于制造成本的降低、生产性的提高,不使用真空方式的成膜法备受关注。
作为其一例,于日本专利特开2011-210422号公报,揭示有如下成膜法:将包含金属物质的溶液或分散液以雾状吹送至基板,而于成为母材的基板的表面形成透明导电膜。于该日本专利特开2011-210422号公报中,将基板设定为既定温度,于此状态下,将以既定浓度包含锌化合物(氯化锌粉末)及锡化合物(氯化锡粉末)的脱水乙醇以及盐酸等所形成的溶液雾气化,将该雾气吹送至基板的表面,藉此形成透明导电性非晶质膜。该脱水乙醇及盐酸是作为抑制氯化锌粉末及氯化锡粉末于溶液中凝集的界面活性剂而发挥功能。
然而,若于溶液添加界面活性剂,则界面活性剂会残留于所形成的薄膜内及薄膜上,该残留的界面活性剂有作为杂质而电性、光学性、或化学性地使薄膜的特性劣化之虞。从而,需通过对薄膜实施退火处理等加热处理而去除残存的界面活性剂,因此不仅用以成膜的步骤、工时增多,而且产生仅可使用具有耐热性的金属物质或基板材料的限制。
发明内容
本发明的第1态样为一种雾气产生装置,其产生包含微粒子的雾气,且包含:第 1容器,其保持包含上述微粒子的雾气生成用的溶液;第1振动部,其通过对上述第 1容器内的上述溶液赋予第1频率的振动,而抑制上述微粒子于上述溶液中的凝集;以及第2振动部,其对上述第1容器内的上述溶液赋予高于上述第1频率、用以自上述溶液的表面产生包含上述微粒子的雾气的第2频率的振动。
本发明的第2态样为一种成膜装置,其使用包含微粒子的雾气于基板上形成薄膜,且包含:容器,其保持包含上述微粒子的分散液;第1振动部,其通过对上述容器内的上述分散液赋予第1频率的振动,而使上述微粒子于上述分散液中成为凝集的尺寸抑制为上述雾气的尺寸以下的分散状态;以及第2振动部,其通过对上述分散液赋予高于上述第1频率的第2频率的振动,而自上述分散液的表面产生包含上述微粒子的雾气。
本发明的第3态样为一种雾气产生方法,其是自包含微粒子的分散液产生雾气,且包含如下步骤:通过对上述分散液赋予第1频率的振动,而抑制上述微粒子于上述分散液中的凝集;以及对上述分散液赋予高于上述第1频率、用以自上述分散液的表面产生包含上述微粒子的雾气的第2频率的振动。
本发明的第4态样为一种成膜方法,其是使用自包含微粒子的分散液产生的雾气于基板上形成薄膜,且包含如下步骤:通过对上述分散液赋予第1频率的振动,而抑制上述微粒子于上述分散液中的凝集;以及通过对上述分散液赋予高于上述第1频率的第2频率的振动,而自上述分散液的表面产生包含上述微粒子的雾气。
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